Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9130774 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist ist eine fortschrittliche Photolithographie-Lösung, die entwickelt wurde, um präzise Mikrostrukturen auf großen Flächen schnell und effizient bereitzustellen. Das System kombiniert Laserstrahl-Direktlithographie (LBDL) und konventionelle Photolithographie-Techniken sowie fortschrittliche Mustertechnologie für eine erfolgreiche Musterbildung auf Nanometerebene. TEL Mark V-Einheit ist in der Lage, dreidimensionale Strukturen zu schaffen, die durch konventionelle Photolithographie-Verfahren schwer zu entwickeln sind. TOKYO ELECTRON MARK-V Maschine nutzt die KRS-U1100DL, eine Laser-erzeugende Vorrichtung, die eine maximale Schreibgeschwindigkeit von 5m/s und eine maximale Wiederholgenauigkeit von 3nm hat. Diese liefert einen Laserstrahl an eine Musterbildungseinrichtung, die wiederum die Musterinformation in ihrem internen Speicher speichert und die Musterinformation auf das Substrat abspielt. Der auf das Substrat aufgebrachte Laserstrahl wird mit einem Mikroskopwerkzeug in verschiedene Mikrostrukturen fokussiert. Darüber hinaus ermöglicht eine eingebaute Bibliothek die Entwicklung verschiedener Mikropatterns und Strukturen, darunter Photolack, Overlay-Farbmuster und -Arrays, Waferumfangsidentifikation und über In-/Out-Kontakt. Mit KRS-U1100DL hat TOKYO ELECTRON Mark V Asset eine minimale Feldeigenschaftsgröße von 50nm und arbeitet mit einem hochfrequenten, kurzen Belichtungszeitlaser auf ein resistbeschichtetes Substrat. Dieser Laser hat die Fähigkeit, Material auf einer viel tieferen Ebene als andere Photolithographiesysteme zu ätzen, was die Entwicklung dreidimensionaler Strukturen weit über die Fähigkeiten herkömmlicher Lithographiegeräte hinaus ermöglicht. Das Modell verfügt auch über eine fortschrittliche Resistverarbeitungsanlage, die die Bildung eines extrem gleichmäßigen und dünnen Resistfilms über das gesamte Substrat ermöglicht. Dies gewährleistet eine genaue und wiederholbare Musterbildung und sorgt für eine hochwertige Verarbeitung jeder Mikrostruktur. Insgesamt ist TEL MARK-V Photoresist, entwickelt von TEL, eine zuverlässige und umfassende Photolithographielösung. Es verfügt über innovative Musterbildungstechnologie, die die erfolgreiche Herstellung dreidimensionaler Strukturen auf Nanometerebene und ein integriertes Resistverarbeitungssystem für hochwertige Ergebnisse ermöglicht. Diese Einheit ist ideal für diejenigen, die Präzisionsmusterbildung auf ihren Substraten für eine Vielzahl von Anwendungen benötigen.