Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9222912 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9222912
Weinlese: 1999
Systems Utility: Drive pressure: Unit drive pressure: 3.5 kgf / cm² (343.2 kpa) Ejector drive pressure: 3.5 kgf / cm² (343.2 kpa) Resist pump drive pressure: 3.5 kgf / cm² (343.2 kpa) Vacuum pressure: Spinner: -550 mm Hg (-73.3 kpa) WEE: -400 mm Hg (-53.3 kpa) C/S, I/F(V,Vz): -400 mm Hg (-53.3 kpa) N2 Pressure: N2 Primary pressure: 3.5 kgf / cm² (343.2 kpa) Developer solution canister tank pressure: 1.0 kgf/ cm² (98 kpa) HMDS Supply tank pressure: 0.5 kgf / cm² (49 kpa) Thinner supply tank pressure: 0.5 kgf / cm² (49 kpa) Resist bottle pressure: 0.3 kgf / cm² (29.4 kpa) Adhesion unit bubbler tank pressure: 0.3 kgf / cm² (29.4 kpa) E2 Nozzle blow pressure: 0.3 kgf / cm² (29.4 kpa) DI Water and developer solution: Primary pressure: 1.0 kgf / cm² (98 kpa) Secondary pressure: 1.0 kgf / cm² (98 kpa) Chilly water: Primary pressure: 1.5 kgf / cm² (147.1 kpa) Exhaust pressure: Coater cup: 5 mm H2O (0.05 Pa) Developer cup: 10 mm H2O (0.1 Pa) Scrubber cup: 10 mm H2O (0.1 Pa) WEE Lamp house: 11∼13 mm H2O (0.11∼0.13Pa) Temperature: 20~27° C Variance to be less than 0.5° C Humidity: 28~55% RH Variance to be less than 3% RH Power supply: 100/200 V, 50/60 Hz, Single phase, ±10% 1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark V ist ein Photoresist-Gerät. Es ist eine Vorrichtung zum Ätzen von Mustern auf ein Substrat (in der Regel Silizium-Wafer) und wird in der Halbleiterherstellung verwendet. Es wirkt, indem es einen lichtempfindlichen Film (Photoresist) dem Licht aussetzt. Anschließend werden die belichteten Bereiche entwickelt und chemisch verarbeitet. Das Ergebnis ist ein auf das Substrat geätztes Muster. TEL Mark V ist mit Präzision im Auge gebaut. Es verfügt über eine erweiterte vierachsige Translationsstufe, die eine präzise Positionskontrolle über das Substrat ermöglicht. Es verfügt über ein hochauflösendes optisches System mit 4X bis 10X einstellbarer Vergrößerung, die eine genaue Musterauflösung und Ausrichtung ermöglicht. Die optische Einheit kann mit verschiedenen Beleuchtungsquellen ausgestattet werden, darunter hochenergieeffiziente LED-Quellen sowie NIR- und ultraviolette Lichtquellen. Es ist auch mit einer „Auto Scan“ -Funktion ausgestattet, um die Belichtungszeit zu reduzieren und das Potenzial für Musterfehler aufgrund von Fehlstellungen zu beseitigen. TOKYO ELECTRON MARK-V ist eine einfach zu bedienende, zuverlässige Maschine. Es verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche und eine Reihe von Funktionen, die es für Anfänger und erfahrene Benutzer einfach zu bedienen machen. Es kann mit einer Reihe von Photolackmaterialien geladen werden, so dass eine Vielzahl von Mustermöglichkeiten möglich ist. Es verfügt auch über eine „Smart Nearest Neighbor“ -Option, die mehrere Belichtungen derselben Fotolackschicht ermöglicht, wobei jede Belichtung für das jeweilige Substrat optimiert ist. Diese Funktion verbessert die Musterauflösung und erhöht die Ausbeute. MARK-V verfügt auch über einen eingebauten Touch-Panel-Monitor, um den Benutzern Informationen über die Bedienung des Werkzeugs zur Verfügung zu stellen. Dazu gehören Informationen über die Prozessparameter sowie Warnungen und Alarme. Dadurch wird sichergestellt, dass Benutzer den Prozess in Echtzeit überwachen und Parameter entsprechend anpassen können. TOKYO ELECTRON Mark V ist ein fortschrittliches, einfach zu bedienendes Photoresist-Asset, das eine genaue Strukturierung bei hohem Durchsatz bietet. Es ist ideal für den Einsatz in der Halbleiterherstellung und ist zuverlässig und benutzerfreundlich genug, um sowohl von erfahrenen als auch von Anfängern verwendet zu werden.
Es liegen noch keine Bewertungen vor