Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9226369 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Mark V
ID: 9226369
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1993
Track system, 6" 1993 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist Equipment ist eine hochmoderne Integrationsplattform, die die Belichtung von Hochvolumenproduktion von lichtempfindlichen Materialien für die Geräteherstellung erleichtert. Es ist die Kombination aus TEL proprietärer Inline-Substratverarbeitungstechnologie und fortschrittlicher optischer Erfassungstechnologie für die Serienproduktion. Dieses System ist somit für seine hervorragende Gleichmäßigkeit und hervorragende Profilsteuerung bekannt. TEL Mark V Photoresist Unit enthält TOKYO ELECTRON fortschrittliche vakuumbasierte Maskenstrahlungstechnologie, um eine hohe Ausrichtungsgenauigkeit zwischen der Maske und dem Photoresist zu gewährleisten. Dies ermöglicht bei verbesserten Belichtungsvorgängen eine hochpräzise Ausrichtung zwischen Photolack und Maskenmuster. TOKYO ELECTRON MARK-V Photoresist Machine ist in der Lage, bis zu einer Auflösung von 0,25 micron, mit Belichtungszeiten so niedrig wie 8ms, so dass feine Tonhöhe Gerät Herstellung. Die Systeme verfügen außerdem über ein linearmotorisch eingebettetes optisches Steuerwerkzeug. Diese Anlage nutzt einen verzerrungsarmen Aktor, um eine präzise Ausrichtung zwischen Maske, Wafer und Projektionsoptik aufrechtzuerhalten. Dadurch wird eine genaue Übertragung des Musters von der Maske auf den Fotolack gewährleistet. Darüber hinaus verfügt TEL MARK-V Photoresist Model über eine vollautomatische Ausrichtungs- und Belichtungsausrüstung, die eine schnelle und einfache Wartung und Einrichtung ermöglicht. Dieses System sorgt für hohe spurübergreifende Gleichmäßigkeitsniveaus, was sehr wiederholbare und konsistente Ergebnisse ermöglicht. Darüber hinaus setzt das Gerät DPT (Dynamic Pattern Tuning) und DFC (Dynamic Focus Control) -Technologien ein, um die höchste Auflösungsqualität bei jeder Exposition zu gewährleisten. TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist Machine ermöglicht auch eine Niedertemperaturaktivierung und Nassreinigung des Fotolacks sowie ein minimales Risiko für Schäden am resultierenden Muster. Die Entwicklung dieses Tools hat geringere Verschmutzungen, einen verbesserten Durchsatz, eine verbesserte Einheitlichkeit der Produkte und eine höhere Benutzerzufriedenheit ermöglicht. Insgesamt wurde MARK-V Photoresist Asset entwickelt, um ein beispielloses Leistungsniveau für die konsistente und präzise Herstellung von feinen Pitch-Geräten zu bieten. Es ist die perfekte Lösung für die Serienfertigung empfindlicher Materialien. Darüber hinaus ermöglicht dieses Modell eine einfache Wartung und Einrichtung sowie eine verbesserte Sicherheit und Kontrolle des Geräteherstellungsprozesses.
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