Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9226378 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V ist eine hochpräzise Photoresist-Ausrüstung, die verwendet wird, um komplexe Muster auf einem Halbleitersubstrat zu ätzen. Es ist ein Photolacksystem mit einer Wellenlänge, das eine hochpräzise, schnelle Filmentwicklung bietet. TEL Mark V verwendet eine Computer Controlled Optical Unit (CCOS) und ein Gas-Phase Exposure Tool (GEPT), um den Ätz- und Musterprozess zu vereinfachen. TOKYO ELECTRON MARK-V bietet eine hervorragende Auflösung und Gleichmäßigkeit der Eigenschaften sowie die Entwicklung von Hochgeschwindigkeitsfilmen. Es ist mit einer fortschrittlichen Musterausrichtungsmaschine (PAS) ausgestattet, die eine Echtzeit-Positionskorrektur bietet und es ermöglicht, Muster mit hoher Präzision auf einem Substrat zu positionieren. Darüber hinaus ist das Entwicklungswerkzeug schnell und präzise, mit einem hohen Durchsatz motorisierte Laser-basierte Resistausrichtung und gleichmäßige Belichtung. Mark V bietet eine Vielzahl von exponierten oxidierten Folien und reduzierten Blaslöchern, die eine höhere Designflexibilität und verbesserte Schaltungsleistung durch die Verwendung extrem dünner Linien und eng geformter Funktionen ermöglichen. Es bietet auch eine erweiterte Linie Edge Roughness (LER) Reduktion Asset für überlegene Musterung Ergebnisse. Mit seinen chemischen Vorläuferkontrollmechanismen und der Feinabstimmung der Resistparameter sorgt TEL MARK-V für eine leistungsstarke Strukturierung mit enger Steigung und kleinen Funktionsgrößen. Das MARK-V-Modell eignet sich dank seiner erweiterten Funktionsvielfalt perfekt für hochkomplexe und komplizierte Resistanwendungen. Es ist ideal für Anwendungen, die schnelle, präzise und genaue Ätzlösungen erfordern, wie zum Beispiel bei der Herstellung von Halbleiterscheiben und Speicherchips. Die Hochgeschwindigkeits-Filmentwicklung, die optimale Musterausrichtung und die fortschrittliche LER-Reduktionsausrüstung machen es zu einer zuverlässigen und effizienten Wahl, wenn Präzisionsmuster erforderlich sind.