Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9384735 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches Spin-on-Photoresist-System mit Funktionen zur Verbesserung des Prozesses der Photoresist-Beschichtung für die Halbleiterindustrie. Es verfügt über ein zweistufiges Beschichtungsmittel, um eine gleichmäßige Abscheidung von Photolackmaterialien auf einer Waferoberfläche zu erreichen. Das Gerät kann verschiedene Resistmaterialien verarbeiten, darunter Dünnschichtresiste wie Wasserstoffsilsesquioxan (HSQ) und Benzylalkoholresiste (BAR) und die Drehzahl von 3000 U/min bis 16.000 U/min. Die Maschine verfügt zudem über mehrere Möglichkeiten zur verbesserten Prozesssteuerung. Es ist mit einem elektronischen Füllstandsmonitor ausgestattet, um jederzeit eine gleichmäßige Resistbeschichtung auf der Waferoberfläche zu gewährleisten. Es verfügt auch über einen Wafer Neigungsmechanismus verwendet, um Widerstandsdicke am Rand des Wafers zu steuern. Dieser Kippmechanismus ermöglicht eine präzise Steuerung des Kantenausschlusses von Resist auf dem Wafer. TEL Mark V Photoresist Tool bietet mehrere zusätzliche Funktionen für eine präzise Waferbearbeitung. Es ist in der Lage, Kantenwulstentfernung mit seiner eingebauten Kantenwulstentfernungsdüse, die die Qualität des Photolacks in der endgültigen Photomaske verbessert. Darüber hinaus ist seine Ausgießdüse für eine gleichmäßige Dispergierung von Photolackspray um den Wafer ausgelegt. Darüber hinaus verfügt TOKYO ELECTRON MARK-V Photoresist Asset über eine Nachentwicklungswäsche, die eine Hochdruck-Sprühspülung in der Sprühkammer verwendet. Dadurch wird sichergestellt, dass aus dem Modell gewonnene Photoresists sauber und frei von Verunreinigungen sind. Die Nachentwicklungsreinigung beinhaltet auch eine Schleuderdüse, um sicherzustellen, dass verbleibende Flüssigkeit vollständig entfernt wird. Insgesamt tragen die Funktionen von Mark V Photoresist Equipment dazu bei, die Kosten für die Photoresist-Dünnschichtabscheidung erheblich zu senken, indem sie eine überlegene Einheitlichkeit und eine verbesserte Prozesskontrolle bieten. Das System unterstützt auch eine Reihe von Resistmaterialien und bietet eine hervorragende optische und physikalische Klarheit der fertigen Photomaske. Dadurch wird sichergestellt, dass das resultierende lithographische Muster von überlegener Qualität und Genauigkeit ist.