Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9384736 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist-Ausrüstung ist eine fortschrittliche Technologie für die Herstellung von ultra-high-density integrierten Schaltungschips verwendet. Es ermöglicht das Abscheiden und Ätzen von Resistschichten auf den dünnen Schaltungsfolien. Das Photolacksystem ist speziell für führende Kantenscheiben und Mikroprozessoren konzipiert. Es ist eine Hochleistungsmaschine, die eine anspruchsvolle optische Einheit mit einer fortschrittlichen Prozesssteuerungsmaschine kombiniert. TEL Mark V besteht aus mehreren Komponenten, darunter einem Submikron-Aligner, einem Photoresist-Dispense-Modul, einem chemischen Vorstreifenmodul, einem Plasma-Stripper-Modul und einem Resiststreifenmodul. Der Aligner dient zur exakten Ausrichtung des Wafers mit der Photoresist-Dispense-Einheit, während das Photoresist-Dispense-Modul zur Ausgabe von photoresist-lichtempfindlichem Material auf den Wafer verwendet wird. Das Chemie-Vorstreifenmodul wird zur vorläufigen Waferaufbereitung zur Herstellung der Resistfotografie verwendet. Das Plasmastrippermodul ermöglicht bei Bedarf das Plasmaätzen bestimmter Schichten. Schließlich ermöglicht das Resiststreifenmodul die Entfernung der Resistschichten nach der Entwicklung. Der Submikron-Aligner von TOKYO ELECTRON MARK-V ermöglicht die Ausrichtung der Merkmale auf dem Wafer mit dem bildgebenden Werkzeug mit Submikrongenauigkeit. Das Tool ist mit einer Vielzahl von Ausrichtungsmethoden ausgestattet, einschließlich Scan-Ausrichtung, glatte Ausrichtung und Fokus-Ausrichtung. Das Photoresist-Dispense-Modul von MARK-V besteht aus einem automatischen Endpunktmonitor, mit dem der Photoresist-Belichtungsstatus während der Abscheidung verfolgt wird. Es enthält auch einen Thermoleiterabgabesensor, der zur genauen Positionierung des Photolacks verwendet wird. Die fortschrittliche Prozesssteuerung von TEL/TOKYO ELECTRON MARK-V besteht aus einem Temperaturregler, der zur Überwachung der Temperatur des Wafers und des Photoresistmaterials dient, um die Bildqualität genau zu steuern. Das Modell verfügt zudem über ein automatisiertes Substratanalysewerkzeug, das eine schnelle Bestimmung der wichtigsten Wafer-Eigenschaften ermöglicht. Mark V Photoresist Ausrüstung bietet extrem präzise und leistungsstarke Herstellung von Ultra-High-Density-Schaltungschips. Es ermöglicht eine schnelle und genaue Ausrichtung und Abscheidung von Photolackmaterial, so dass komplexe Geräte auf höchstem Niveau hergestellt werden können. Das fortschrittliche Prozessleitsystem ermöglicht eine sorgfältige Temperaturüberwachung und Substratanalyse, wodurch die Genauigkeit der Ergebnisse weiter erhöht wird.