Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9384737 zu verkaufen

Die' TEL/TOKYO ELECTRON Mark V 'Photoresist-Ausrüstung ist ein fortschrittliches Photolithographiesystem, das hauptsächlich in der mikroelektronischen Fertigung eingesetzt wird. Diese Einheit wurde entwickelt, um Muster auf Halbleiterscheiben durch den Einsatz von Abscheide- und Ätztechnologien zu erzeugen. TEL Mark V Maschine enthält eine ganze Reihe von Funktionen entwickelt, um die Verarbeitungsleistung von Mikroelektronik-Komponenten zu verbessern. Das Tool besteht aus drei primären Komponenten - einer Substrat Processing Unit (SPU), einer Auflösungs- und Belichtungskomponente (REC) und dem Primary Control Asset (PCS). Die SPU wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Materialien zu verarbeiten, darunter Photoresists, Photomasken und andere Dünnschichtmaterialien. Diese Komponente wurde entwickelt, um sicherzustellen, dass die photolithographischen Schritte mit genauer Kontrolle über alle Aspekte des Prozesses durchgeführt werden, einschließlich Temperatur, Druck und Feuchtigkeit. Die REC-Komponente erleichtert die photolithographischen Muster durch Einstellung der Auflösung des Prozesses. Es passt auch die Belichtung, die die Muster auf dem Substrat manifestiert. Die PCS-Komponente fungiert als primäres automatisiertes Steuermodell für alle Geräte in TOKYO ELECTRON MARK-V-Geräten. Es gewährleistet eine gleichmäßige Konsistenz zwischen Hunderten oder Tausenden von Substraten, indem es die Leistung jedes Bauteils überwacht. MARK-V-System enthält auch mehrere spezialisierte Tools zur Überwachung und Analyse der während des Prozesses gesammelten Daten. Dazu gehören Kalibrierungssteuerung, Substratzuordnung, Spitzenleistungszuordnung und parametrische Bildgebung. Diese Datenerhebung trägt dazu bei, dass Qualität und Leistung während des Herstellungsprozesses erhalten bleiben. Am Ende bietet TEL/TOKYO ELECTRON MARK-V eine Einheit, die auf Präzision und Zuverlässigkeit bei der Erstellung mikroelektronischer Komponenten ausgelegt ist. Es misst die Genauigkeit von Merkmalen bis hin zu Nanometerabständen und registriert genau Belichtungszeiten für maximale Leistung. Die Kombination der fortschrittlichen Subsysteme garantiert Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit für den mikroelektronischen Herstellungsprozess.