Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark Vz 10000WC-N #9148318 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark Vz 10000WC-N ist eine Photoresist-Ausrüstung für lithographieempfindliche Anwendungen. Es verwendet ein fortschrittliches Lithographieverfahren, bei dem Licht verwendet wird, um ein Muster von einer Photomaske auf ein Substrat zu übertragen. Das System ermöglicht qualitativ hochwertige Bilder mit einer präzisen Steuerung der Musterorte und -größen. Das Gerät ist hochintegriert und bietet eine Gesamtlösung für Resistanwendungen wie Strukturierung, Reinigung, Ätzen und Inspektion. Sie besteht aus einem als Lichtquelle für die Masken wirkenden Beleuchter, einem Elektronenstrahl-Scanner zur Belichtung der Masken und einem Ionenstrahl-Ätzer, der bei der Übertragung des Musters auf das Substrat hilft. Der Beleuchter hat eine Temperaturregelung von +/- 1 ° C, die eine gleichmäßige und gleichmäßige Beleuchtung gewährleistet. Der Elektronenstrahl-Scanner kann den 1- bis 5-Mikron-Bereich genau abtasten und hat eine maximale Betriebsrate von 500x Vergrößerung. Es verwendet eine 3-stufige Beschleunigungsmaschine mit Beschleunigung/Verzögerung, Fokussierung und Austastfunktionen. Der Ionenstrahl-Ätzer ist in der Lage, Proben mit einer Auflösung von 2 Nanometern genau zu ätzen. Das Tool umfasst auch eine Reihe von Vor- und Nachbearbeitungssystemen, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen. Es verfügt über Bilderfassung zur Überwachung und Analyse der Prozesse, automatische Ausrichtungskalibrierung, Analyse der erfassten Daten, optische Auslesen der Muster und Maskeninspektion. Die Anlage verwendet TEL ScrubRX-Lösung für die Reinigung der Substrate und einen Backwähler, um verschiedene Arten von Resists unterzubringen. Darüber hinaus verwendet es eine Reihe von Scanner-spezifischen elektronischen Filtern, um die Qualität des Bildes zu steuern, wie ein Multi-Process Filter (MPF), der Bildparameter anpasst, und ChromaFilter für die Farbtrennung. Insgesamt ist TEL Mark Vz 10000WC-N ein fortschrittliches und integriertes Fotolackmodell, das es Anwendern ermöglicht, qualitativ hochwertige hochauflösende Muster mit präziser Kontrolle über Musterorte und -größen zu erzielen. Es eignet sich für eine Reihe von Anwendungen, von der Messung der Oberflächenrauhigkeit bis zur fortschrittlichsten Halbleiterbauelementintegration.