Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #149633 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz
ID: 149633
Wafergröße: 6"
(2) Coater / (2) developer track systems, 6".
TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz Photoresist Equipment ist ein High-End-Präzisions-Lithographiesystem zur industriellen Herstellung von Nanomustern. Diese moderne Lithographieeinheit ermöglicht die Herstellung feinster und detaillierter geometrischer Muster bei häufig verwendeten Wellenlängen (z.B. 633nm, 365nm und 248nm) und bietet High-End-Funktionen für die chemische Verarbeitung und Messtechnik. TEL MARK-VZ Photoresist Machine bietet mehrere Betriebsarten, darunter optische Projektionslithographie (OPL) und Elektronenstrahl-Lithographie (EBL). In OPL wird Licht auf eine Projektionslinse projiziert, und die Linse vergrößert die feinen Muster auf das Substrat - das ultimative Ziel der Operation. EBL ist das Verfahren, bei dem extrem feine Strukturen höchste Präzision erfordern. Diese Art der Lithographie nutzt hochfokussierten Elektronenstrahl, um feine Strukturen auf das Substrat zu schreiben. TOKYO ELECTRON MARK V-Z Photoresist Tool bietet auch verschiedene chemische Verfahren, wie Prime Coating und Entwicklung. Der primäre Beschichtungsschritt hilft, das Substrat zu schützen und eine gleichmäßige Oberfläche zu schaffen, während die Entwicklung hilft, die Photolackschicht zu erweichen und aufzulösen und das darunter liegende Muster aufzudecken. Zusätzlich bietet TOKYO ELECTRON MARK-VZ Photoresist Asset messtechnische Funktionen, um die höchste Qualität des fertigen Produkts zu gewährleisten. Dazu gehören eine Vielzahl von Messungen, wie Linienbreite und -höhe, Seitenwandwinkel und Überlagerungsfehler, die alle wichtig sind, um eine präzise und konsistente Mustergeometrie zu gewährleisten. TEL/TOKYO ELECTRON MARK-VZ Photoresist Model ist äußerst zuverlässig und optimiert sowohl den Durchsatz als auch die Präzision für jeden Lithographieprozess. Diese Ausrüstung ermöglicht die Herstellung von extrem feinen Strukturen, so dass buchstäblich jede Art von Muster möglich ist, von 3D-Strukturen bis hin zu nanoelektronischen Geräten. Dieses System ist somit ein unschätzbares Werkzeug für Unternehmen, die feinste und komplizierteste Strukturen herstellen möchten.
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