Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9148234 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz
ID: 9148234
Weinlese: 1997
Coater & developer 3D (E2 nozzle+Back rinse) 5HP 5Col Right Stand alone 1997 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz Photoresist Equipment ist ein modernes Lithographiesystem, das entwickelt wurde, um hochpräzise Bilder und Musterungen auf Halbleiterscheiben zu erzeugen. Das Gerät verwendet eine spezielle flüssige Chemikalie namens Photoresist, die die genaue Erzeugung eines vorbestimmten Bildmusters ermöglicht, typischerweise für die Herstellung von integrierten Schaltungen (ICs). TEL MARK-VZ verfügt über eine automatisierte und computergesteuerte Stoppereinheit, die die Belichtungszeit des Fotolacks genau zeitlich abstimmt. Es enthält auch einen Spin Coater, der verwendet wird, um die Photolackflüssigkeit gleichmäßig auf einen Wafer aufzutragen. Der Spin Coater dreht sich mit einer sehr schnellen Geschwindigkeit und verteilt den Photolack perfekt auf den Wafer. Die Maschine verfügt außerdem über ein Wafer-Spannfutter, das den Wafer während der Belichtung führt und ihm eine stabile Position verleiht. Dadurch wird sichergestellt, dass das gewünschte Bild oder Muster genau auf den Wafer gedruckt wird. Zusätzlich verfügt TOKYO ELECTRON MARK V-Z über eine halbautomatische Zentriervorrichtung und Ein-Klick-Zentrierung, die sicherstellt, dass das Muster immer genau ausgerichtet und zentriert auf dem Wafer ist. Schließlich verfügt MARK V-Z über ein Auto-Level-Feature, das sicherstellt, dass der gemusterte Wafer immer auf dem Niveau ist und richtig auf das Substrat ausgerichtet ist. Dies hilft, die Genauigkeit und Präzision des photolithographischen Prozesses zu erhöhen. Insgesamt ist das Photoresist-Tool TEL/TOKYO ELECTRON MARK-VZ ein hochentwickeltes, computergestütztes und automatisiertes Lithographie-Tool, das für die Präzisionsproduktion komplexer Muster auf Wafern entwickelt wurde. Durch den Einsatz modernster Geräte wie Stopfeneinheit, Spin Coater, Wafer Chuck und Auto-Level-Feature ist es in der Lage, präzise und präzise Muster für die Produktion von ICs zu produzieren.
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