Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9148324 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz ist eine branchenführende Photolackausrüstung, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es ist aufgrund seiner fortschrittlichen Technologie in der Lage, präzise, genaue und wiederholbare Musterbilder von fortschrittlichen Photomasken abzubilden. TEL/TOKYO TEL MARK-VZ ist ein hochauflösendes Bildgebungswerkzeug, das für die Photoresist-Beschichtung, das Spinnen und die Musterbildgebung verwendet wird. Es verwendet hochentwickelte Algorithmen und Optik, um ein Muster aus der Photomaske exakt auf die Photolackschicht auszurichten. Das System ist in der Lage, hochauflösende Bilder zu erzielen, die bis zu einem Bruchteil eines Mikrons gesteuert werden können. TOKYO ELECTRON/TOKYO TOKYO ELECTRON MARK V-Z verwendet ein patentiertes Spin-Coating-Verfahren mit einem Luftlager, das bis zu 3000 U/min spinnen kann. Diese Methode ist ideal für superdünne, konforme und gleichmäßige Beschichtungen, die zu hochauflösender Bildgebung führen. Das Gerät ist in der Lage, große Substrate mit bis zu 1000 x 1000 mm Größe zu beschichten. Die Maschine kann auch präzise wiederholen Rezepte und Rezepte klar definiert und gepflegt werden. Dadurch wird sichergestellt, dass die Beschichtung präzise und präzise repliziert werden kann. Auch die Photoline von TEL/TOKYO ELECTRON/TOKYO MARK-VZ sind hochgenau und können bis auf ein Mikron- oder Submikronmuster genau angesteuert werden. Dies ermöglicht ein höheres Maß an Genauigkeit und Präzision beim Mustern und Abbilden von Resist. TEL/TOKYO MARK V-Z ist für maximale Leistung ausgelegt und wird durch eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche ermöglicht, die einfach zu bedienen und zu verstehen ist. Damit steht das Tool allen Anwendern zur Verfügung und sorgt dafür, dass auch komplexeste Prozesse schnell und präzise realisiert werden können. Abschließend ist TOKYO ELECTRON/TOKYO TOKYO ELECTRON MARK Vz Photoresist Asset ist ein Top-Modell der Linie, das auf Präzision und Genauigkeit in Photomasken-Fertigungs- und Bildgebungsprozessen ausgelegt ist. Es verwendet fortschrittliche Spinn- und Beschichtungsalgorithmen, um ein einheitliches und hochauflösendes Muster bereitzustellen. Das Gerät ist einfach zu bedienen und kann für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden, einschließlich der Bildgebung mit höherer Auflösung.