Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9205494 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz Photoresist ist eine Lithographie-Lösung, die eine großflächige Integration präziser Mikrometer-Eigenschaften ermöglicht. Das System eignet sich für den Einsatz in fortgeschrittenen Wafer- und Geräteherstellungsanlagen und ist in der Lage, großflächige Merkmale mit ausgezeichneter Registrierungsausrichtung zuverlässig zu strukturieren. TEL MARK-VZ Einheit ist entworfen, um die Anforderungen für fortschrittliche Wafer Design und Fertigung zu erfüllen. Die Maschine bietet Anwendungen auf Siliziumscheiben, Si-LDI (Siliziumschicht-Direktbildgebung) und Verbundmaterialien mit überlegener Geschwindigkeit und Genauigkeit. Im Betrieb besteht das TOKYO ELECTRON MARK V-Z Photolackwerkzeug aus einer eigenen Abtaststufe, einem Scanner und einem Photolackprozessor. Die Abtaststufe besteht aus zwei kubischen vertikalen Stufen, einer Hexapodenausrichtstufe und einer Mehrsegmentstufe. Die Bühnenkonfiguration wurde entwickelt, um die Layout- und Positioniergenauigkeit während des Scanvorgangs zu optimieren und eine effiziente Überlagerung zwischen den PMOS- und NMOS-Strukturen zu ermöglichen. TEL MARK Vz Photoresist Asset ist mit einem Laserdiodenquellen-Scanner ausgestattet, der großflächige hochauflösende Bilder in einem einzigen Hub mustern kann. Der Scanner verwendet Hochleistungs-Laserstrahlen, um Funktionen mit großem Seitenverhältnis präzise auf strukturierte Substrate zu strukturieren. Der Scanner bietet extrem präzise, verzerrungsfreie Belichtung und bietet außergewöhnlich saubere und gleichmäßige Bilder. TEL MARK V-Z Photoresist Modell verfügt auch über einen Prozessor, der hervorragende chemische Genauigkeit für nasse und trockene Entwicklung bietet. Der Prozessor wurde entwickelt, um konsistente Daten und hohe Empfindlichkeit für die Verarbeitung von schwer entwickelbaren Substraten bereitzustellen. Der Prozessor ist auch in der Lage, Post-Exposure Bakes (PEB) Ebenen und erweiterte Lithographie-Algorithmen zu liefern. TOKYO ELECTRON MARK Vz Photoresist-Ausrüstung ist ideal für den Einsatz in modernen technologischen Umgebungen, in denen extrem präzise Funktionen benötigt werden. Es bietet eine kostengünstige Lösung für die Pro-Tonne und Elektronenstrahl-Lithographie, um eine qualitativ hochwertige Musterung für eine Vielzahl von Prozessen zu ermöglichen. Darüber hinaus ist es in einer Reihe von Konfigurationen für die spezifischen Bedürfnisse der Kunden verfügbar.