Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9221713 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz ist eine erstklassige, hochpräzise „Photoresist“ -Ausrüstung, die für die Photomaskenbelichtung und -ätzung in der Halbleiterproduktion entwickelt wurde. Es wird zur Bildgebung und Strukturierung von Schaltungen für Mikroelektronik und Optik verwendet. Das System ist mit mikrooptischen und projektionsbildgebenden Systemen für die Handhabung verschiedener Substrate ausgestattet, darunter Metalle, Polymere, Organik und Keramik. Die Maschine kann Substrate so klein wie 0.05mm in der Größe behandeln. Das Gerät enthält auch hochauflösende Kameras zur Erkennung und Einstellung der Substratkrümmung, wodurch sichergestellt wird, dass jede Belichtung genau und konsistent ist. Die Maschine verfügt über einen gleichmäßigen UV-Laserscanner mit hoher Geschwindigkeit und ein optisches Weitfeldmikroskop zur genauen Ausrichtung des Laserstrahls. Diese Technologie ermöglicht es der Maschine, Belichtungsdosis und Druckqualität genau zu steuern. Das Werkzeug hat auch eine schnelle automatische Wafer Handhabung Asset. Das Modell ist in der Lage, das Substrat sowohl in der Xaxis als auch in der Y-Achse genau auszurichten, um die beste Belichtungsgleichförmigkeit zu erreichen. Das Gerät ist mit einem Maskenreinigungssystem ausgestattet, um sicherzustellen, dass während des Belichtungsprozesses keine Staub oder andere Partikel die Maske oder das Substrat verunreinigen. Diese Einheit verwendet fortschrittliche Algorithmen, um mögliche Verunreinigungen zu lokalisieren und zu identifizieren und vom Substrat zu entfernen. Die Maschine verfügt auch über ein hochpräzises Entwicklungswerkzeug, das in der Lage ist, die Menge des Entwicklers zu kontrollieren, der verwendet wird, um die Genauigkeit im Entwicklungsprozess zu gewährleisten. Es verfügt auch über eine Bildbibliothek, die bis zu 400.000 Bilder von zuvor entwickelten Mustern speichern kann. Schließlich ist der Vermögenswert in der Lage, messtechnische Dienstleistungen anzubieten, die dazu beitragen, dass der exponierte Resist die gewünschte Dicke aufweist und der entwickelte Resist eine gleichbleibende Musterqualität aufweist. Dies trägt dazu bei, dass die durch Bildgebung erzeugten Geräte von höchster Qualität sind.