Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9250082 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz
ID: 9250082
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1995
Coater / (2) Developer system, 6" 1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz ist eine Photoresist-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um eine fortschrittliche UV-Lithographie zu ermöglichen. Die ausgeklügelte Lithographie-Fähigkeit des Systems ermöglicht eine präzise Strukturierung von mikroelektronischen Schaltungen und ist ein ideales Werkzeug für die Herstellung von Hochleistungsgeräten. TEL MARK-VZ verwendet extreme ultraviolette (EUV) Strahlung, um ein Muster auf einen Wafer mit hoher Transparenz, geringer optischer Aberration und geringen Kosten zu projizieren. Diese neue Technologie wurde entwickelt, um die optische Aberration herkömmlicher ALD-Prozesse zu reduzieren. Zu den Hauptkomponenten von TOKYO ELECTRON MARK V-Z gehören eine monochromatische EUV-Lithographiequelle, eine Lithographiemaske, eine Photomaske und ein Resistprozessor. Die monochromatische EUV-Lithographiequelle ist eine Anordnung von Plasmaquellen, die kurzwellige Strahlung von 13,5 nm emittieren. Die Lithographiemaske soll die spezifische optische Wellenlänge der EUV-Strahlung passieren lassen, um Muster auf dem Resist zu erzeugen. Die Maske wirkt auch als Beugungselement. Die Fotomaske ist eine undurchsichtige Platte mit chrombasierten Designs, mit denen die gewünschten Muster erzeugt werden. Der Resistprozessor ist eine Einheit, die Belichtungszeit, Temperatur und Konzentration des Resistes steuern kann, um eine präzise Strukturierung des Substrats zu ermöglichen. MARK V-Z ist auch ein ideales Werkzeug für Nachentwicklungsprozesse wie Entschlüsseln, Sputtern oder Backofenbacken sowie für interne Elektroden und Bleirahmen. Darüber hinaus ist TEL MARK V-Z eine hochflexible Maschine, die es ermöglicht, Technologien wie Polsteroxidätzen und Schattenmaskenätzen zu strukturieren. Insgesamt ist TEL/TOKYO TEL/TOKYO ELECTRON MARK V-Z ein zuverlässiges und effektives Photolackwerkzeug mit der Fähigkeit, die Pixelgenauigkeit deutlich zu verbessern. Es ist ein ideales Werkzeug für die moderne Chipherstellung, und seine Genauigkeit, Flexibilität und Zuverlässigkeit machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für mikroelektronische Gerätehersteller.
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