Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9386549 zu verkaufen
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ID: 9386549
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1995
(1) Coater / (2) Developer system, 6"
(4) Spin bodies
Power box
Chemical box
Temperature control unit
T and H (Auxiliary part)
Chuck, 6"
Transfer arm
Centering alignment
Index:
(2) Load ports
25-Slots mapping
Spin coater:
(2) Resist nozzles
PR Nozzle temperature control
Dummy dispense system
Vacuum chuck
Resist suck back
Back rinse nozzle
EBR Nozzle rinse
IWAKI Bellows pump
EBR Back flow meter
Upper and lower cup
Exhaust: Auto damper
Facility drain line
Nozzle moving: Stepping motor
Temperature and Humidity Controller (THC) Coater chamber
Spin motor:
AC Servo motor: 0-5000 RPM, ±2 RPM
Maximum: 5000 RPM
(2) Spin developer:
Develop nozzle temperature control
Vacuum chuck
DI Rinse
Back rinse nozzle
Upper and lower cup
Developer flow meter
Back rinse nozzle
DI Rinse
(4) Hot plates, 6"
PID
PT Temperature sensor
Program time: 0 ~ 990 sec (set 1sec)
Temperature range: 50°C - 180°C
(3) Cooling plates, 6"
PID
PT Temperature sensor
Range: 15°C - 35°C
AD Plate, 6"
PID
PT Temperature sensor
HMDS Vapor chamber cover
HMDS Bubbling tank
Program time: 0 - 990 sec (set 1sec)
Temperature range: 50°C - 180°C
Chemical cabinet:
Photo resist system
Bottle (1 Gal): Trap tank, (2) Nozzles
HMDS Tank: 2.5 L
Thinner: Canister (5 GL)
Developer: Canister (5GL)
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine positive und negative Photoresist-Technologie der Spitzenklasse bietet. Dieses System ermöglicht die Entwicklung von Resists für eine Vielzahl von Anwendungen, insbesondere für hochauflösende, halbleiterkompatible Bauformen. Der patentierte TEL MARK-VZ kann präzise Muster im Nanometerbereich bilden. Die Einheit verfügt über einen Substrathalter, mit dem Proben jeder Größe auf der Plattform platziert werden können. Seine Abdeckfläche ist ausreichend, um riesige Wafer aufzunehmen, und die Präzision der Substratstufe gewährleistet die Positioniergenauigkeit. TOKYO ELECTRON MARK V-Z beinhaltet auch einen Belichtungskopf, mit einem mit dem Nobelpreis ausgezeichneten Gaußschen Beleuchtungsstrahl und einer anpassbaren Fokusposition. Dies ermöglicht eine höhere Genauigkeit und optimale Belichtungskonsistenz. In der Lithographie garantiert das PATMAX-Feature von MARK V-Z die Mustergenauigkeit. Es verwendet die neuesten evolutionären Algorithmen, um die bestmöglichen Ergebnisse zu erzielen. Die Maschine enthält auch Funktionen wie automatische Kalibrierung und automatische Lösung, die auf manuelle Schritte reduziert, arbeiten, um Zeit zu reduzieren und die Gesamteffizienz zu verbessern. Darüber hinaus verfügt die trockene hochreflektierende Beleuchtungsoptik über einen Original HRI Supersymmetric Reflector (SHR), der bis zu achtzigmal mehr Lichtenergie ermöglicht als bestehende Systeme. Dies ermöglicht höhere Belichtungsauflösungen und reduziert die Verarbeitungszeit drastisch. Die Optik bietet zudem eine optimierte Gleichmäßigkeit und macht MARK-VZ optimal für fortschrittliche Lithographie- und Back-End-Prozesse wie Waferreinigung und Ätzen. Das Tool integriert eine Software-Suite CENTRAL, die eine einfache Kontrolle des Belichtungsprozesses und den Zugriff auf die Einstellungen der Maschine ermöglicht. Es bietet auch eine 3D-Ansicht für die Fortschrittsbewertung und ermöglicht erweiterte Operationen. CENTRAL unterstützt das Management von bis zu vier Expositionssystemen und sorgt für höchste Belichtungsgenauigkeit. Dieses neue Photoresist-Asset von TEL nutzt die neuesten Technologien und Algorithmen, um bemerkenswerte Präzision und Effizienz zu erreichen. Mit leistungsstarker Trockenoptik und einer Software-Suite für erweiterte Steuerung ist MARK Vz möglicherweise das ideale Fotolackmodell für anspruchsvollste Halbleiteranwendungen.
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