Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9399374 zu verkaufen

ID: 9399374
(2) Coater / (2) Developer system (2) Coater: Main body Thermo controller rack Drain box UPS Power box THC Chemical box 1 (2) Developer: Main body UPS Power Box Chemical box 2.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz ist eine neue Photoresist-Ausrüstung zur Verbesserung der Genauigkeit und Geschwindigkeit von Fotoresist-Bildgebungsprozessen. Photoresist ist ein organisches oder anorganisches Material, das verwendet wird, um ein Muster auf ein Substrat zu übertragen. Das TEL MARK-VZ-System besteht aus einer maskenlosen Lithographieeinheit (MLL) und einer hochauflösenden Projektionsoptik. Die MLL-Einheit ist das Schlüsselgerät, das in der Einheit verwendet wird und ist in der Lage, Muster mit optischen Wiederholungen oder einzelner Projektionsgeometrie genau auf Substrate zu projizieren. Die Projektionsoptik der TOKYO ELECTRON MARK V-Z Photoresist-Maschine verwendet ein fortschrittliches digitales Mikromirror-Gerät (DMD), um kleine Strahlprojektion zu verwalten. Diese DMD verwendet winzige Mehrwinkelspiegel, um den Belichtungspegel und die Brennweite für jede Musterposition auf dem Substrat genau anzupassen. Dieser Anpassungsprozess gewährleistet eine hochauflösende Bildgebung und eine präzise Belichtungssteuerung. Die Mehrwinkelspiegel der Projektionsoptik können das gesamte Spektrum des sichtbaren Lichts sowie ultraviolette und infrarote Strahlung projizieren. Die MLL-Einheit in MARK V-Z Photolackwerkzeug verfügt auch über eine Feldemissionsanzeige (FED) Projektionsfläche. Dieser Bildschirm kann verwendet werden, um präzise Platzierung und Größe Muster verschiedener Größen. Die FED-Projektionsfläche ist zudem extrem hell und eignet sich somit für Anwendungen in der Photolithographie. Darüber hinaus kann diese MLL-Einheit mit einer Reihe von Materialien für verschiedene bildgebende Verfahren verwendet werden, einschließlich chemisch amplifizierter Resiststoffe, chemisch aktivierter Resiststoffe und thermischer Resiststoffe. Neben der MLL- und Projektionsoptik verfügt TEL MARK Vz photoresist asset auch über eine Reihe von Funktionen, um Bildgebungsprozesse zu erleichtern. Beispielsweise kann dieses Modell Rezepte für bis zu 35 Muster in der Musterdatenbank speichern. Dadurch wird sichergestellt, dass ein Benutzer schnell den Bildgebungsprozess laden und starten kann. Das Gerät verfügt auch über einen automatisierten optischen Ausrichtungsprozess, um sicherzustellen, dass Muster genau auf die Substratoberfläche projiziert werden. Darüber hinaus kann dieses System die Musterbelichtung automatisch anpassen, so dass Benutzer die Belichtungszeit und das Niveau, das sie benötigen, einfach einstellen können. Insgesamt bietet die Photolackeinheit TEL MARK V-Z eine zuverlässige, genaue und schnelle Fotolackiermaschine. Seine MLL- und Projektionsoptiken sind in der Lage, Muster genau auf verschiedene Substrate zu projizieren, während seine automatisierten optischen Ausrichtungs- und Belichtungsprozesse es einfach machen, den Photolackprozess einzurichten und durchzuführen. Darüber hinaus können Anwender bis zu 35 verschiedene Muster für bildgebende Prozesse speichern, was dieses Tool ideal für Projekte mit geringem und hohem Volumen macht.
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