Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON / NEXX Stratus S300 #9302388 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9302388
Automated system
Quick dump rinse
Damaged parts:
(2) DI supply Valves
(3) Chillers
(3) Lift limit switches
(2) Level sensors
(2) SRD Modules.
TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Stratus S300 ist eine Präzisionslithographie-Ausrüstung zur Herstellung hochwertiger Photolackmuster auf Halbleitersubstraten. Es bietet eine effiziente Möglichkeit, komplexe mikroelektronische Geräte mit Geschwindigkeit und Genauigkeit zu erstellen. TEL Stratus S300 umfasst einen Mehrstrahl-Lithographiekopf und einen 4-Punkt-Hochauflösungsschrittmotor sowie eine hochpräzise Substratstufe mit optionalen Mehrlochbelichtungsfähigkeiten. Das System bietet eine Auflösung von 0,18 Mikrometern mit einem KrF-Excimer-Laserstrahl, wobei die Belichtungswellenlänge auf 248 nm eingestellt ist. Ein einzigartiges Selbstausrichtungs-KE stellt sicher, dass alle Belichtungsoperationen korrekt ausgerichtet sind. Das Gerät verwendet einen mehrschichtigen Abtastmechanismus, um hohe Genauigkeit und schnelle Produktdurchsatzraten zu gewährleisten. Es kann bis zu acht Substrate von bis zu 8 "Größe aufnehmen, mit einer maximalen Substratdicke von 0,6 mm. Die Maschine bietet eine ultraschnelle Belichtungsgeschwindigkeit von 2,4 Sekunden/Schuss für eine 1,2 mm Quadratfläche. Es enthält auch einen leistungsfähigen Wafer-Handler, der ein Substrat aus dem Kassettenlader in der richtigen Orientierung und Position speist. NEXX Stratus S300 kombiniert hochgenaue Mustererzeugung mit verbesserter Mustereinheitlichkeit, Bildauflösung und hohen Durchsatzraten. Es bietet auch ein fortschrittliches Prozesskontrollwerkzeug mit Echtzeitoptimierung der Belichtungsbedingungen und der Maschinenleistung. Die Anlage kann die Ungleichmäßigkeit des Substrats reduzieren und Belichtungsparameter optimieren, wodurch eine minimale Umweltbelastung, eine ausgezeichnete Bildgebungsqualität und wiederholbare Ergebnisse über längere Zeiträume gewährleistet werden. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON Stratus S300 ein innovatives und hochgenaues Photoresist-Modell, das qualitativ hochwertige Photoresist-Muster mit minimalem Aufwand oder Abfall erzeugen kann. Seine fortschrittlichen Eigenschaften machen es zu einem idealen Werkzeug für die Herstellung komplexer mikroelektronischer Geräte mit Geschwindigkeit und Genauigkeit.
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