Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #9245729 zu verkaufen
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TEL/TOKYO ELECTRON NS 300 ist eine Photolackausrüstung, die sich ideal für Photolithographie- und Dünnschichtabscheidungsprozesse eignet. Es wird von TEL (TOKYO ELECTRON), dem weltweit größten Lieferanten von Halbleiterproduktionsanlagen, hergestellt und geliefert. Das System weist mehrere Merkmale auf, die neben anderen Filmabscheidungsprozessen auch photolithographische Prozesse optimieren. TEL NS 300 kann 75 mm und 150 mm Substrate mit einer Funktionssteuerung von 2 Mikron verarbeiten. Es verfügt über erweiterte Funktionen für Wafer-Ebenheit, Profiländerung und Kantenrundung. Das Gerät ermöglicht auch eine enge Overlay-Steuerung mit einer Genauigkeit von 0.5um. Die Maschine verwendet eine Gas-Reflow-Technik, um komplexe Probleme mit luftführenden Werkzeugen zu reduzieren und eine reibungslose und konsistente mechanische Bewegung zu gewährleisten. Das Asset ist PC gesteuert und ein grafisches Benutzeroberflächenmodell macht es einfach zu bedienen. Die PSM-Antriebseinheit bietet hervorragende und schnelle Mobilität. Mit einer Flächenabtastgeschwindigkeit von bis zu 70 mm/s sorgt das Gerät für einen photolithographischen Prozess, der schneller ist als herkömmliche Methoden. Ein programmierbares Auftragssteuerungssystem ermöglicht eine großartige Anpassung von Funktionen und Freiformbewegungen. Es ermöglicht dem Benutzer auch, programmierbare Parameter zu erkunden, um eine Optimierung der Prozessbedingungen sicherzustellen. Das Gerät weist außerdem eine automatische Endpunkterfassungsmaschine mit einer Genauigkeit von 0,2 um auf und der Endpunkt basiert auf dem optischen Signal des Substrats. TOKYO ELECTRON NS300 ist mit einer stabilen Ionenstrahlquelle ausgestattet, um Werkzeugdrift zu reduzieren und eine gute Leistungskonsistenz zu gewährleisten. Sowohl der Waferhalter als auch die Probenpositionierstufe werden separat erhitzt und gekühlt und können Temperaturen bis 200 Grad Celsius erreichen. Dieser Temperaturbereich ist optimal für photolithographische Prozesse. Die Anlage verfügt auch über eine einzigartige Eigenschaft der Bereitstellung in-situ Echtzeit-Simulation/Demonstrationen bei der Auswahl und Inbetriebnahme von Geräten zu helfen. Es ist auch mit einer vorkonfigurierten abgeschirmten Laserschnittstelle zur weiteren Prozessoptimierung der Strahlbelichtung ausgestattet. Dieses Modell ist eine One-Stop-Lösung für alle fortschrittlichen Photolithographie-Prozesse. Es ist eine einfach zu bedienende Ausrüstung mit großen Funktionen, um große Leistung und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Das System eignet sich für die Waferbearbeitung bei hohen Geschwindigkeiten und kann für Anwendungen in Halbleiter-, Leiterplatten-, integrierten Schaltkreisen und mikro-elektromechanischen Systemen (MEMS) eingesetzt werden.
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