Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #9251833 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON NS 300 ist eine hochentwickelte und spezialisierte Photolackausrüstung zur Abscheidung von Mikro- und Nanomustern auf Substratoberflächen. Es ist speziell für den Einsatz bei der Herstellung von Geräten wie integrierten Schaltungen ausgelegt, die eine hohe Präzision für die Abscheidung von Mustern erfordern. TEL NS 300 besteht aus drei Hauptkomponenten: einer Computersteuerung, einem Strahlscanner und einer Elektronenstrahlkanone. Das Rechnersteuergerät ist für die Steuerung des Strahlscanners zuständig, der den Elektronenstrahl kontinuierlich oder stufenweise ausrichtet und abtastet, wodurch eine Steuerung des Photolackabscheidungsmusters möglich ist. Die Elektronenstrahlkanone ist eine hochintensive Vorrichtung, die einen Elektronenstrahl mit hoher Präzision erzeugt. Dieser Elektronenstrahl wird dann auf die Substratoberfläche gerichtet, wo der Photoresist abgeschieden wird. TOKYO ELECTRON NS300 Photoresist Machine bietet vielseitige, hochpräzise Funktionalisierungsfunktionen. Es ist mit intelligenten Rückkopplungsmechanismen ausgestattet, die etwaige Fehler in den Strahl- oder Oberflächenmustereigenschaften erkennen können. Dadurch kann der Benutzer Strahlrichtung und Energie einstellen, um sicherzustellen, dass das gewünschte Muster erzeugt wird. Das Tool ist auch mit einer Vielzahl von Musterkodierungsschemata ausgestattet, einschließlich ein- und zweidimensionaler Layouts, um eine vielseitigere Abscheidefähigkeit zu bieten. Neben den erweiterten Funktionalisierungsfunktionen bietet TEL/TOKYO ELECTRON NS300 Photoresist Asset auch ein wirtschaftliches, hochauflösendes Beschichtungsverfahren. Dies liegt an seiner Fähigkeit, eine dünne Materialschicht auf der Substratoberfläche abzuscheiden, die eine ausgezeichnete Haftung auf der Substratoberfläche aufweist. Die Kosten des Prozesses werden durch die hohe Effizienz des Modells minimiert. TEL NS300 Photoresist Equipment ist eine fortschrittliche Plattform, die wesentliche Komponenten für die Herstellung von Geräten mit photolithographischen Techniken bietet. Es ist sehr zuverlässig und effizient, mit vielseitigen Funktionalisierungsfähigkeiten und einem kostengünstigen, hochauflösenden Beschichtungsprozess.