Gebraucht TEMPRESS 420 #104136 zu verkaufen

TEMPRESS 420 ist eine Art Photolacksystem. Es ist ein photolithographisches Material, das bei Ätz- und Gravierprozessen verwendet wird, hauptsächlich bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen. 420 ist ein positiv arbeitender und chemisch verstärkter positiver Photoresist. Es widersteht Strahlenbelichtungen in den ultravioletten und tiefen ultravioletten Bereichen des elektromagnetischen Spektrums sowie Elektronenstrahlen und Röntgenstrahlen. TEMPRESS 420 ist hochempfindlich, hat ausgezeichnete Photospeed und kann verwendet werden, um eine ausgezeichnete Linienauflösung zu erzeugen. Der Resist bildet aufgrund seiner hohen Resistauflösungsrate leicht entfernbare Resiststrukturen, die einfachere und kostengünstigere Ätzprozesse ermöglichen. Der Resist bietet im Vergleich zu herkömmlichen Photolacksystemen eine verbesserte Gesamtleistung. 420 enthält zwei Komponenten. Die erste ist ein Polyphenolharz, das als Stabilisator wirkt und eine verbesserte optische Reflexion des Photoresists ermöglicht, was eine bessere Fokussiertiefe ermöglicht. Der andere Teil des Photolacks ist ein Acrylatmonomer, das während des Belichtungsprozesses polymerisiert wird. Die Monomermoleküle quellen an und wandeln sich bei Strahlenbelastung zu einem Feststoff um, der das zugrunde liegende mikroelektronische Substrat vor dem Angriff durch den Ätz- oder Gravurprozess abschirmt. Bei Bestrahlung polymerisieren das Polyphenolharz und das Acrylatmonomer unter Bildung eines positiven Bildes im Resist. Zusätzlich sorgt das Acrylatmonomer für eine sehr gute Haftung des Photolacks auf dem darunterliegenden Wafer, was verbesserte Ätzprofile und größere Linienbreite ermöglicht. Ein weiterer Vorteil von TEMPRESS 420 ist die Kompatibilität mit photolithographischen Verfahren, die eine präzise Positionierung des Photolacks ermöglichen. Photolithographie ist ein Verfahren, das energiereiche Strahlung verwendet, um Muster von mikroelektronischen Elementen auf einem Wafer zu erzeugen. Die Strahlung ist in der Regel schmal in der Frequenz, so dass eine hohe Präzision bei der Strukturierung sehr kleine Elemente auf den Substraten. Dies ermöglicht die Verwendung sehr präziser Masken mit präzisen Mustern, die für die Herstellung komplexer mikroelektronischer Geräte unerlässlich sind. Schließlich ist 420 ein sehr umweltfreundliches Photoresist-System, da es keine VOCs (flüchtige organische Verbindungen) enthält und die aktiven Komponenten eine geringe Toxizität aufweisen. Als solche kann es eine bevorzugte Wahl für umweltbewusste Produktionsanlagen sein. Abschließend ist TEMPRESS 420 ein positiv arbeitendes und chemisch verstärktes positives Photolacksystem, das eine hervorragende Leistung beim Ätzen und Gravieren mikroelektronischer Substrate bietet. Es bietet eine verbesserte Photospeed, eine ausgezeichnete Linienauflösung und eine bessere Haftung des Photolacks auf dem darunterliegenden Wafer. Darüber hinaus ist es kompatibel mit photolithographischen Prozessen, so dass es ideal für komplexe Muster, und ist umweltfreundlich und gering Toxizität.