Gebraucht TOHO KASEI SD-06 #9280836 zu verkaufen

TOHO KASEI SD-06 ist eine hochmoderne Photolackausrüstung, die für hochpräzise und hochproduktive Anwendungen wie die Herstellung von Siliziumchips entwickelt wurde. Es ermöglicht eine hochpräzise Lithographie, den Prozess der Musterübertragung in fotodefinierten Prozessen, mit einer maskenlosen Belichtungsgenauigkeit von besser als einem Mikrometer. Das System ist kostengünstig mit einem modularen Aufbau, der die einfache Konfiguration von Einheiten, einfache Installation und Wartung fördert. Es bietet eine hohe Verarbeitungsgenauigkeit und konstante Leistung bei geringer Resthöhe und Höhenunterschiede von bis zu 12%. SD-06 bietet mit seinen schneller trocknenden Fotolackfilmen und der leistungsschwachen Laserdiodenquelle eine erhöhte Produktivität. Die Maschine verfügt zudem über geringere Verarbeitungskosten aufgrund ihrer höheren optischen Energieeffizienz. TOHO KASEI SD-06 hat eine hohe Auflösung von 10 um, und die Genauigkeit seiner Ausrichtung und Fokus wird durch seine fortschrittliche „Bilderkennungstechnologie“ verbessert. Darüber hinaus ermöglicht seine volle Wellenlängensteuerung der Belichtung maximale Flexibilität, um unterschiedliche Anforderungen an Materialien und Prozessbedingungen zu erfüllen. Es ermöglicht auch eine hohe Nivellierfähigkeit, die sicherstellt, dass jeder belichtete Bereich die gleiche Menge an Licht erhält, wodurch die Schichtauflösung verbessert wird. SD-06 verfügt zudem über verbesserte Sicherheitsvorkehrungen durch standardisierte Maßnahmen zur Gefahrstoffbewirtschaftung sowie Fälschungsmaßnahmen. Darüber hinaus verfügt das Werkzeug aufgrund seines präzisen und gleichmäßigen Luftdrucks über eine überlegene Bearbeitungsgenauigkeit und verwendet ein maskenloses Belichtungsgut. Dadurch können präzisere Muster in einzelnen Verarbeitungseinstellungen gedruckt werden. Abschließend ist TOHO KASEI SD-06 ein kostengünstiges und benutzerfreundliches Fotolackmodell, das ein hohes Maß an Flexibilität, Genauigkeit und Produktivität bietet, um eine qualitativ hochwertige Leistung in der Chipherstellung zu gewährleisten. Seine hervorragenden Eigenschaften machen es zu einer idealen Wahl für große und kleine Silizium-Chip-Herstellungsvorgänge.