Gebraucht TOHO KASEI SD-08 #9280838 zu verkaufen

TOHO KASEI SD-08
ID: 9280838
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1994
Spin dryer, 8" 1994 vintage.
TOHO KASEI SD-08 ist ein von TOHO KASEI Co., Ltd. entwickeltes Photoresist-Gerät zur Beschichtung und Strukturierung von Substraten für Elektronik, Optoelektronik und MEMS-Anwendungen. Das System verfügt über zwei innovative Technologien, die in anderen Photolacksystemen nicht vorkommen. Die erste Technologie ist die neue Substrat Dirigent Dispensing Method (SDD). Dieses Verfahren verwendet einen proprietären Präzisionsausgabemechanismus, der in der Lage ist, Substraten, die unterschiedliche Merkmale wie unterschiedliche Dicken, Krümmungen und Substratorientierungen aufweisen können, eine gleichmäßige Beschichtung von Photolack bereitzustellen. Dieses präzise Aufbringen des Photolacks gewährleistet eine gleichmäßige Abdeckung und eine genauere Strukturierung ohne zusätzliche Nachbearbeitung. Die zweite Technologie in SD-08 ist die fortschrittliche Photon Emission Hotspot Detection Method (PEHD). Dieses Verfahren ermöglicht es TOHO KASEI SD-08, die Veränderung des Energieverteilungsmusters des Photolacks und des Substrats zu erfassen, die durch die Erwärmung des Substrats verursacht wird, wenn es einem Laserstrahl ausgesetzt wird. Dadurch kann das Gerät die Laserleistung und andere Parameter automatisch anpassen, um eine optimale Belichtung zu gewährleisten, was zu einer verbesserten Musterübertragung und hochpräzisen Bildgebung führt. SD-08 kommt auch mit anderen nützlichen Funktionen wie der hochempfindlichen Bild-verbesserte Fotografie-Modul, das hilft, höhere Auflösung Bilder zu erhalten, und eine Schichtdicke-Steuerung Maschine, die der Benutzer die Photolack Schichtdicke für einen genaueren Musterungsprozess einstellen können. Zusammenfassend ist TOHO KASEI SD-08 ein fortschrittliches Photoresist-Tool mit zwei Technologien - der Substrate Dirigent Dispensing Method und der Photon Emission Hotspot Detection Method -, um eine gleichmäßigere und genauere Anwendung des Photoresists zu ermöglichen und eine optimale Laserbelichtung für eine verbesserte Musterübertragung und hochpräzise Bildgebung zu gewährleisten. Weitere hilfreiche Funktionen runden dieses Asset als vielseitige und fortschrittliche Photolacklösung für Elektronik, Optoelektronik und MEMS-Anwendungen ab.
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