Gebraucht TOHO KASEI SD-08 #9280840 zu verkaufen

TOHO KASEI SD-08
ID: 9280840
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
Spin dryer, 8" 1999 vintage.
TOHO KASEI SD-08 ist eine Photolackanlage, die für lithographische Prozesse auf Halbleiterplatten entwickelt wurde. Es ist eine hochempfindliche und zuverlässige Photomaskiertechnik, die Muster auf einem Wafer mit Bildgenauigkeit belichten kann. Das System ist ein integriertes Werkzeug zur Entwicklung und Veränderung von Photolackschichten bei der Herstellung elektronischer Bauelemente. Die Grundstruktur von SD-08 besteht aus einer Lichtquelle und einem Retikel mit Photomaskenmustern. Das Retikel ist in einer Position montiert, die bereit ist, das Belichtungslicht der Lichtquelle aufzunehmen. Die Photolackschicht eines Wafers wird zunächst mit einer Polierlösung poliert. Anschließend wird das Substrat an einem Spinnfutter befestigt. Das Spinnfutter wird in einer Position fixiert und auf das Retikel ausgerichtet. Es wird eine präzise Drehzahl eingestellt, die eine gleichmäßige Belichtung des Substrats mit dem Licht ermöglicht. Nach der Belichtung mit dem Licht wird der Wafer auf eine Entwicklereinheit übertragen. Die Entwicklereinheit verwendet eine chemische Lösung, um die belichteten Teile des Photolacks zu lösen. Dadurch werden die gewünschten Muster auf dem Wafer erzeugt. TOHO KASEI SD-08 ist eine effiziente und präzise Photolackeinheit, die eine fortschrittliche optische Maschine verwendet, um genaue Bilder zu liefern. Es bietet Anwendern die Bequemlichkeit, schnell Änderungen an der Reihenfolge der Photomasken-Muster vorzunehmen. Es ist auch in der Lage, qualitativ hochwertige Bilder mit kleinen Funktionsgrößen zu produzieren. SD-08 ist ein zuverlässiges Werkzeug, das genaue Ergebnisse liefern kann. Es hilft Benutzern, präzise Halbleiterbauelemente mit genauen Spezifikationen herzustellen. Dieses Fotoresist-Tool kann verwendet werden, um eine breite Palette von Produkten zu erstellen.
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