Gebraucht ULTRA OPTICS Mini II #293597469 zu verkaufen

ULTRA OPTICS Mini II ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von ULTRA OPTICS entwickelt und zur Präzisionsmusterung verwendet wird. Photoresists sind Materialien, die bei Exposition gegenüber spezifischer elektromagnetischer Strahlung, wie ultraviolettem Licht, Löslichkeitsänderungen erfahren. Mini II bietet wellenlängenselektive Belichtung und Photochemie, die komplizierte und komplexe Muster auf Photolackoberflächen erzeugen können. Dieses System verwendet eine Lichtquelle, deren Spektrum an das gewünschte Muster angepasst werden kann. Es ermöglicht Präzision und Flexibilität im Belichtungsbereich und ist damit ideal für komplizierte, detailorientierte Muster. Es kommt auch mit einem Vakuumtisch, um hochauflösende Muster mit minimaler Verzerrung zu erstellen. Das benutzerfreundliche Design des Geräts macht es für den Einsatz in Laboren, Universitäten und anderen ähnlichen Einrichtungen geeignet. Die Maschine kann einfach auf spezifische Anwendungen zugeschnitten werden. Mit der Winkeleinstellfunktion können unterschiedliche Belichtungswinkel vorgesehen werden. Das Werkzeug ermöglicht auch die Zeitkontrolle, um die Genauigkeit der Belichtung zu gewährleisten. Für zusätzlichen Komfort bietet ULTRA OPTICS Mini II eine optionale automatische Kalibrierung. Dadurch kann der Anwender die Belichtung für verschiedene Resistmaterialien, Substrate und Prozessbedingungen schnell und genau einstellen. Das Modell ist auch in der Lage, Unterstützung für verschiedene Photoresists zur Verfügung zu stellen. Bei ordnungsgemäßer Vorbehandlung des Substrats können auch kontrastarme oder hochabsorbierende Materialien mit dem Gerät gehandhabt werden. Das System ist auch in der Lage, hochauflösende Muster mit fortschrittlichen Belichtungstechniken wie Kälte und Tiefenexposition zu erzeugen. Mini II bietet zuverlässige Leistung und Langlebigkeit. Dies ist aufgrund seiner robusten und langlebigen Konstruktion sowie seiner überlegenen Lichteinheit. Die Stabilität des Geräts gewährleistet auch, dass seine Leistung bei längerer Nutzung konstant bleibt. Insgesamt ist ULTRA OPTICS Mini II eine ideale Wahl für komplizierte, detaillierte Mikromuster auf Photolackoberflächen. Diese Maschine bietet Präzision und Flexibilität im Belichtungsbereich sowie Unterstützung für verschiedene Fotolacke. Sein benutzerfreundliches Design und seine robuste Leistung machen es für den Einsatz in Laboren, Universitäten und anderen ähnlichen Einrichtungen geeignet.