Gebraucht ULTRA OPTICS Mini II #9218885 zu verkaufen

ULTRA OPTICS Mini II ist ein Photoresist-Gerät, das Licht aus UV- und sichtbaren Quellen verwendet, um Lithographiemuster auf Halbleitermaterialien zu erstellen. Dieses System ist für den Einsatz in Forschungs- und Entwicklungslabors konzipiert und kann zur Erstellung von mikro- und nanoskaligen Mustern auf Halbleiterscheiben verwendet werden. Das Gerät verwendet Photoresist, ein lichtempfindliches Material, das chemische Reaktionen nur dort ermöglicht, wo es einer Lichtquelle ausgesetzt ist. Photolack wird auf die Oberfläche des Wafers aufgebracht und dann mit einer Maske belichtet. Die Maske ist ein Metall- oder SiO2-Muster, das das gewünschte Lithographiemuster enthält. Nach der Belichtung wird der Wafer entwickelt, um das gewünschte Muster aufzudecken. Mini II ist in der Lage, eine breite Palette von Lithographiemustern zu belichten und kann eine Substratgröße von bis zu 8 Zoll unterstützen. Es verwendet mehrere Laserquellen im Bereich von 180nm bis 448nm, die schnell zwischen verschiedenen Wellenlängen umgeschaltet werden können. Dadurch kann die Maschine für eine Reihe von Lithographieprojekten und mit unterschiedlichen Auflösungen eingesetzt werden. Das Werkzeug verfügt auch über eine Flüssigkristallanzeige, die schnelle und einfache Auslesungen ermöglicht. Dadurch wird sichergestellt, dass die Belichtungspegel korrekt sind und das richtige Muster erzeugt wird. ULTRA OPTICS Mini II ist eine zuverlässige Bereicherung, die es ermöglicht, relativ schnelle Muster ohne Qualitätseinbußen zu erstellen. Es ist ideal für Forschungs- und Entwicklungslabore, die schnelle, genaue Lithographiemuster benötigen. Das Modell kann mit verschiedenen Photoresist verwendet werden, so dass es für verschiedene Projekte mit unterschiedlichen Auflösungen verwendet werden kann.