Gebraucht ULTRA OPTICS Mini II #9316393 zu verkaufen

ULTRA OPTICS Mini II ist eine Photoresist-Ausrüstung für fortschrittliche Elektronenstrahl-Lithographieanwendungen. Es ist ein Hochleistungssystem, das hochauflösende Bilder mit sehr Präzision und Genauigkeit erzeugen kann. Mini II verfügt über eine einstufige Elektronenstrahlsäule mit einer Lichtfeld-Anzeige, die eine dynamische Auflösungseinstellung ermöglicht. Es bietet eine Vielzahl von bildgebenden Techniken elektronisch sowie eine präzise manuelle Bewegung des Strahls und der Optik. Diese Einheit ist auch mit einer automatischen Ausrichtmaschine ausgestattet, die jeden der Strahlen und Objekte, die eine Bildgebung benötigen, exakt ausrichtet. ULTRA OPTICS Mini II verwendet Photoresists, um hochauflösende Funktionen zu schaffen. Photoresists sind lichtempfindliche Materialien, insbesondere ultraviolettes (UV) Licht, und wenn sie UV-Licht ausgesetzt sind, werden sie chemisch verändert, wobei die Lichtintensität eine Rolle bei ihrer Reaktivität spielt. Mini II-Werkzeug verfügt über eine Vielzahl von Photoresist-Typen, negativ und positiv, für eine breite Palette von Anwendungen. Alle verfügbaren Photoresist-Typen sind so konzipiert, dass sie mit der einstufigen Elektronenstrahlsäule auf ULTRA OPTICS Mini II arbeiten. Bei der Verwendung von Mini II kann der Benutzer den Strahlstrom und die Geschwindigkeit sowie den Fokus anpassen, um die besten Belichtungsergebnisse für verschiedene Photoresist-Typen zu erzielen. Zusätzlich können verschiedene Scanmuster wie Raster-, Gerade-, Spiral- und Hesselmuster vor der Belichtung vorprogrammiert werden, um eine bestmögliche Auflösung zu erzielen. ULTRA OPTICS Mini II ist für die präzise Abbildung verschiedener Merkmale und Muster konzipiert und eignet sich daher gut für Fertigungsprozesse wie die Halbleiterherstellung. Es ist in der Lage, Merkmalsgrößen von 0,2 Nanometer bis mehrere Mikrometer zu produzieren. Darüber hinaus ist dieses Asset für eine einfache Bedienung konzipiert und bietet eine umfassende Suite an Software-Zubehör, die seine Fähigkeit weiter erweitert. Zusammenfassend ist Mini II ein fortschrittliches Elektronenstrahl-Lithographiemodell, das für Fertigungsanforderungen entwickelt wurde. Es ist mit einer fortschrittlichen einstufigen Elektronenstrahlsäule ausgestattet, die eine dynamische Auflösungseinstellung ermöglicht, sowie eine Vielzahl von verfügbaren Fotolackmaterialien für viele verschiedene Anwendungen. Mit seiner präzisen Bildgebung und einem umfassenden Softwarezubehör ist ULTRA OPTICS Mini II eine ideale Ausrüstung für die fortschrittliche Mikrofertigung.