Gebraucht ULTRA OPTICS Mini II #9316421 zu verkaufen

ULTRA OPTICS Mini II ist eine voll funktionsfähige Photolackanlage für den Einsatz in Lithographie- und Dünnschichtprozessen. Es ist ideal für Anwendungen wie Leiterplattendesign, Wafer-Musterung und OLED-Herstellung. Das System nutzt leistungsstarke, aber benutzerfreundliche Software und Präzisionsoptiken, um zuverlässige Ergebnisse zu erzielen. Das Gerät verfügt über eine schnelle Vakuumstufenscanner-Maschine mit einer maximalen Geschwindigkeit von 600 µm/s und einer Auflösung von 0,17 µm, die eine schnelle Produktion wiederholbarer Muster ermöglicht. Das Scan-Tool verfügt zudem über eine Schnellwechseloptik, die eine einfache Installation verschiedener Objektive für verschiedene Ziele oder Prozesse ermöglicht. Es ist auch mit einer Vielzahl von Resistfilmen verträglich, einschließlich positiven und negativen Resists und lichtempfindlichen Polymeren. Mini II bietet auch eine breite Palette von Belichtungsoptionen, mit Belichtungszeitinkrementen von bis zu 10 Millisekunden. Es verfügt über einen intuitiven Setup-Assistenten, der die Prozesseinrichtung vereinfacht und eine automatische Belichtungssteuerung bietet, während Benutzer die Einstellungen für präzise Ergebnisse feinjustieren können. Es verfügt über eine Reihe von bildgebenden Funktionen, wie zweidimensionale Feldmaskierung, die gründliche Muster schnell und genau erstellen können. Das Asset ist zudem mit einem fortschrittlichen Modellcontroller ausgestattet, um Prozessparameter kontinuierlich zu überwachen und Anpassungen entsprechend vorzunehmen. Es verfügt über eine eingebaute Temperatur- und Feuchtigkeitskontrollausrüstung, um eine gleichmäßige Belichtung zu gewährleisten. Das System ist auch mit einer Vielzahl von Bildverarbeitungs- und Inspektionssoftware kompatibel, was es zu einer flexiblen Lösung für die Herstellung macht. ULTRA OPTICS Mini II ist eine leistungsstarke und einfach zu bedienende Lösung für jede photoresistbasierte Produktionsumgebung. Es bietet zuverlässige und genaue wiederholbare Ergebnisse für eine Reihe von Anwendungen, einschließlich Leiterplattendesign, Wafer-Musterung und OLED-Herstellung. Mit seiner schnellen Scaneinheit, einer breiten Palette an Belichtungsoptionen und einem effizienten Setup-Assistenten ist Mini II eine effiziente und benutzerfreundliche Option für die Photoresist-Produktion.