Gebraucht ULTRA OPTICS MR3 #293815326 zu verkaufen

ULTRA OPTICS MR3 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine fortschrittliche und hocheffiziente Photolithographie-Lösung für die präzise Herstellung von Photomasken, Wafern und anderen optoelektronischen Geräten bietet. Es eignet sich ideal für Anwendungen im Bereich der Mikroelektronik, der Herstellung optischer Komponenten sowie der Optoelektronik und Systementwicklung. Das System nutzt eine proprietäre motorisierte Stufe zur hochgenauen Positionierung von Arbeitsmaterialien und eine einzigartige Immersions-Lithographie-Technik für maximale Belichtungspräzision. Das Gerät bietet auch die vollständige Verwaltung von Lithographie-Parameter, die hohe Auflösung Leistung auch bei niedrigen Produktionskosten zu gewährleisten. Die Kombination aus einer hochpräzisen Bewegungsmaschine und fortschrittlichen Lithographieparametern machen MR3 zu einer idealen Lösung für hohe Genauigkeit oder große Flächenlithographiebedürfnisse. Für Waferbearbeitungsanwendungen ist ULTRA OPTICS MR3 mit einem 545 nm Laserscanner und einem 355 nm He-Cd Laser ausgestattet, die jeweils bis zu 20 Mpixel/s Scanrate, Scanauflösung bis zu 10 µm und Scanbereich bis zu 60 mm Diagonale aufweisen können. Mit dem Tool können Benutzer problemlos Belichtungszeiten und Laser-Tracking-Geschwindigkeiten programmieren, um die Komplexität des Musters anzupassen. Außerdem ist die Anlage in der Lage, die Laserleistung individuell anzupassen, um sicherzustellen, dass verschiedene Teile eines Musters genau und ohne Aufladung/Entladung Probleme in den zu verarbeitenden Materialien freigelegt werden. MR3 verfügt außerdem über eine hochdynamische Fokuskontrolle, um stabile Scaneigenschaften bei Musterherausforderungen sicherzustellen. Diese Funktion wird mit einer hochpräzisen variablen Fokusoptik ermöglicht, die bei Scans über- und unterfokussierende Signale auf einem Arbeitsmaterial kompilieren kann. Es bietet auch kontinuierliches Feedback zum Autofokusmodul der ULTRA OPTICS MR3 Plattform, was eine optimierte Mustergenauigkeit ermöglicht. Darüber hinaus beseitigen eingebaute Algorithmen zur Entfernung von Bildverzerrungen unerwünschte Verzerrungen von Mustern während des Belichtungsprozesses. Das Modell bietet ein effektives Fehlermanagement mit einer doppelten Scan-Ausrichtungsstrategie und einer programmierbaren Fehlerdichtemanagementausrüstung. Dieses System überprüft, identifiziert und kennzeichnet potenzielle Fehler in den gescannten Bildern, so dass sie umgehend adressiert und korrekt für einen erfolgreicheren Betrieb kompensiert werden können. MR3 Photolackeinheit ist eine zuverlässige und leistungsstarke Lösung für die mikroelektronische Lithographie. Die Maschine bietet hochpräzise Bildgebung und Produktion von empfindlichen optoelektronischen Komponenten, und seine motorisierte Bühne seine leistungsstarke Plattform und Steuerungsalgorithmen garantieren eine genaue Musterung. Die Vielfachbelichtungstechniken, bildgebende Algorithmen und das Miniaturisierungs- und Defektmanagement-Tool machen ULTRA OPTICS MR3 zu einer idealen parallelen Verarbeitungslösung für Photomaske, Wafer und optoelektronische Geräteprototypen und -produktion.