Gebraucht ULTRATECH 504 #9280245 zu verkaufen

ULTRATECH 504 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für die Herstellung von Leiterplatten und anderen elektronischen Komponenten entwickelt wurde. Das System verwendet eine Kombination aus UV-Licht und hochwertigen strahlungsempfindlichen Photoresist-Materialien, um dauerhafte Schaltungsmuster auf Leiterplatten (PCBs) zu erstellen. 504 bietet Muster- und Beschichtungslösungen für eine Reihe von Plattentypen und Geometrien, einschließlich ein- und doppelseitiger, mehrschichtiger, Durchgangsloch und Oberflächenmontage. Das Gerät besteht aus einer Lichtquelle, einem Prozessor und einer Resistmanagementmaschine, die den gesamten Prozess verwalten und steuern. Die im Werkzeug verwendete Lichtquelle ist eine Quecksilberbogenlampe mit einer 400-500W Leistungsstärke. Dadurch entsteht ein hochintensives UV-Licht mit einem weiten Wellenlängenbereich. Um ein definiertes und genaues Schaltungsmuster zu erzeugen, wird die Lichtquelle genau zwischen axialer und radialer Richtung bewegt, um eine höhere Auflösung zu erzielen. Der Prozessor und Resist Management Asset von ULTRATECH 504 hilft bei der Herstellung von konsistenten und zuverlässigen Schaltungsmustern. Der Prozessor ist ein Steuerungsmodell, das für die Initiierung des Belichtungsprozesses verantwortlich ist. Nach Auswahl des zu druckenden Musters bestimmt der Prozessor die für dieses Muster erforderliche Belichtungszeit und Lichtpegel. Die UV-Licht- und Photolackeigenschaften werden dann entsprechend eingestellt, um ein erfolgreiches Ergebnis zu gewährleisten. Die Resistmanagementausrüstung aktiviert die zu verwendenden Resistkomponenten. Je nach Art des Projekts können verschiedene Arten von Photoresists eingesetzt werden. Dieses System überwacht den Fluss von Resist durch die Einheit und gewährleistet eine nahtlose und effiziente Resist-Abscheidung. Einer der Hauptvorteile von 504 Maschine ist die hochwertige Schaltungsausgänge es bietet. Die hochentwickelte Lichtquelle und der hochauflösende Prozessor ermöglichen eine höhere Genauigkeit der Schaltungsmuster. Dieses Tool wurde auch entwickelt, um einen effizienten Workflow zu schaffen, der eine sicherere und schnellere Photoresist-Produktion ermöglicht.