Gebraucht ULTRON SYSTEMS INC / USI Prism 350 #9092430 zu verkaufen

ULTRON SYSTEMS INC/USI Prism 350 ist eine fortschrittliche, modulare und kostengünstige Photoresist-Entwicklungsausrüstung für alle Lithographieanwendungen. Dieses System wird verwendet, um Resist auf einen Wafer aufzubringen und ihn dann UV oder sichtbarem Licht auszusetzen. Dadurch kann der Benutzer den Resist mustern und dann die dem Licht ausgesetzten Teile des Wafers wegätzen. Das Gerät bietet aufgrund seiner präzisen Dosiergenauigkeit und fortschrittlichen Automatisierung eine hervorragende Leistung in der präzisen Resistbeschichtung und der empfindlichen Resistmusterung. Es verfügt über einen Wafer-Roboter zum Positionieren einer Kassette von Wafern auf dem Wafer Pod, und eine Präzisionspumpmaschine, die genaue Abgabe- und Spülzeiten bietet. Der Wafer kann entweder durch einen Kontakt oder ein Näherungswerkzeug Licht ausgesetzt werden, und dann sorgt die integrierte Substratheizung für einen konsistenten Resist-Entwicklungsprozess. Das Werkzeug bietet darüber hinaus einen verbesserten Umweltschutz, indem es eine präzise destillierte und gefilterte Wasserquelle für Reinigungsprozesse sowie einen integrierten Folienedger für präzise Resistbeschichtung enthält. Die automatisierte Abfallentsorgung soll die Partikelerzeugung beim Spülen reduzieren. Die benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche bietet einen intuitiven Workflow und eine vorausschauende Diagnose. Die Hybrid-Systeme - sowohl in Kontakt als auch in der Nähe - verfügen über Touchscreen-Technologien, eine verbesserte Ausrichtungsgenauigkeit, einen erweiterten Dosisbereich und zusätzliche Auflösungsfähigkeit. USI Prism 350 Photoresist Entwicklungsmodell bietet Flexibilität, Leistung und Benutzerfreundlichkeit in einem kostengünstigen Paket. Es bietet eine zuverlässige und effiziente Produktion mit hohem Durchsatz und gleichbleibenden Produktionserträgen. Mit seinem breiten Spektrum an Funktionen und fortschrittlicher Automatisierung ist dieses Gerät ideal für Serienprozesse und für die Entwicklung anspruchsvoller, fortschrittlicher und empfindlicher Resists in einer Vielzahl von Prozessen und Anwendungen.