Gebraucht ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 102 #9124003 zu verkaufen

ID: 9124003
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2000
UV curing oven, 6" UV lamp lamp intensity 25 mW/cm2 Wavelength: 254.7 nm Exposure time 35 sec 2000 vintage.
ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 102 ist eine Photoresist-Ausrüstung für die Entwicklung von direkten Schreiblithographieverfahren und wird häufig in Präzisionslithographieanwendungen verwendet. Das Gerät ist ein komplettes, integriertes Photoresist-System zur Herstellung reproduzierbarer, hochauflösender Mikrostrukturen auf Substraten oder Wafern. Es ist in der Lage, präzise, starke strukturelle Merkmale und scharf definierte Muster im Bereich von 1 μ m bis 5 μ m Größe zu erzeugen. Das Gerät wurde entwickelt, um Belichtungsgenauigkeit, Stabilität und Linearität zu optimieren und die Produktion von durchsetzungsfähigen Funktionen mit minimalen Prozessschritten zu ermöglichen. USI UH 102 verwendet einen zweistufigen Resist-Prozess; die erste Stufe ist die thermische Abscheidung und Strukturierung eines Resistmaterials, während die zweite Stufe die Nachbearbeitung des Resistes mit einer Reihe von Entwicklerschritten ist. Das Gerät verfügt über eine präzise Heizmaschine, die eine gleichmäßige Abscheidung der Folie ermöglicht und verfügt über eine digitale Steuerung mit einem Display, das eine intuitive Schnittstelle zur Temperaturauswahl bietet. Darüber hinaus verfügt das Gerät über einen Belichtungsbereich von bis zu 50mW/cm2 und bis zu einer Auflösungsfunktionsgröße von 0,1 μ m. Das Tool verfügt auch über eine integrierte Raumauflösungs-Testanlage sowie ein Post-Exposure-Überwachungsmodell für eine konsistente Prozessausgabe. Diese Anlage ist in der Lage, durch Auswertung des Folienoberflächenkontrastes etwaige Änderungen der Foliendicke während des Resistentwicklungsprozesses zu erfassen. ULTRON SYSTEMS INC UH 102 ist auch mit einem Präzisionsmesssystem ausgestattet, das die Messung kleiner Merkmale im Bereich von 1 μ m bis 5 μ m ermöglicht und gleichzeitig ein Verständnis der Mikrogeometrie des Substrats liefert. UH 102 verfügt über eine automatisierte Resist-Beschichtungseinheit, die eine einheitliche Resist-Foliendicke bietet, und verfügt über eine automatisierte Entwicklermaschine nach der Belichtung, die so programmiert werden kann, dass sie konstant ein konsistentes, präzises Post-Exposure-Muster bereitstellt. Darüber hinaus verfügt die Einheit über ein hochpräzises Photoresist-Ausgabewerkzeug, das leicht einstellbar und in der Lage ist, eine gleichmäßige Ausgaberate bereitzustellen. Insgesamt ist ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 102 ein effizientes und zuverlässiges Photoresist-Asset und bietet ein hochpräzises Lithographieverfahren, das wiederholbare, hochauflösende Muster mit der minimalen Anzahl von Prozessschritten erzeugen kann. Die zahlreichen Funktionen des Modells, wie der digitale Controller, automatisierte Resistbeschichtungen, Entwickler nach der Belichtung und Messtechnik, machen es für Präzisionslithographie-Anwendungen sehr anwendbar. USI UH 102 ist ein zuverlässiges, präzises und kostengünstiges Lithographiewerkzeug.
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