Gebraucht ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 102 #9179248 zu verkaufen

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 102 ist eine Photolackausrüstung für die Herstellung von Halbleitermaterialien und Komponenten. Das Photolacksystem ist eine Hightech-Industrieanwendung, die die Abscheidung von Photolackschichten auf der Oberfläche integrierter Schaltungen ermöglicht, die bei der Herstellung von Computerchips, Sensoren und anderen elektronischen Geräten verwendet werden. Die Photolackeinheit erreicht dies durch einen Vakuumabscheidungsprozess zur Abscheidung einer dünnen Schicht aus Photolackmaterial über der integrierten Schaltung. Diese Fotolackmaschine ist mit einer hochauflösenden digitalen Abbildungskamera und einer Laserlichtquelle zur Bildung des Photolackmusters auf der Oberfläche des Substrats ausgestattet. Die Bildaufnahmekamera dient zur Erfassung und Darstellung eines digitalen Bildes der Fotolackmuster, das zur Überwachung des Abscheideprozesses dient. Die Laserlichtquelle dient zur Belichtung und Härtung des Photolacks im gewünschten Muster. Das Abscheiden des Photolacks führt zur Bildung einer dünnen Schicht aus Photolackmaterial über dem Substrat. Das Photoresist-Tool USI UH 102 enthält auch einen Sputterabscheidungsmechanismus, der als Maske dient, um die Abscheidung auf die gewünschten Positionen auf dem Substrat zu richten. Die Sputterabscheidung dient zur Bildung einer Oxidschicht auf der Substratoberfläche, die das Substrat vor dem Photolack schützt. ULTRON SYSTEMS INC UH 102 Asset verfügt über einen hocheffizienten Wafer-Stepper, mit dem das Substrat bewegt wird. Diese Alloide für präzise Bedienung und genaue Positionierung. UH 102 Photolackmodell ist zuverlässig, effizient und kostengünstig. Es produziert qualitativ hochwertige Photolackschichten, die bei der Herstellung fortschrittlicher Halbleiter- und Elektronikbauelemente verwendet werden können. ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 102 Geräte laufen auf einer niedrigen Stromversorgung und sind einfach zu installieren und zu bedienen. Dieses Photolacksystem kann sowohl für industrielle als auch für Forschungszwecke verwendet werden. USI UH 102 macht den Prozess der Abscheidung von Photolackschichten auf der Oberfläche von Halbleiter- oder elektronischen Bauelementen zu einem nahtlosen Prozess.