Gebraucht ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 110 #9099954 zu verkaufen

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 110 ist eine Photolackanlage, die für die Präzisionsbearbeitung verschiedener Substrate entwickelt wurde. Es verwendet eine fortschrittliche Anwendungsmethode für gepulste UV-Strahlung zur Herstellung von großflächigen Mikrostrukturen. Dieses System ist weit verbreitet in Branchen im Zusammenhang mit Photonik, Optoelektronik, Medizintechnik und Halbleiterverarbeitung. Die Photolithographieeinheit besteht aus einer Substrathandhabungsmaschine, einer Maske, einer Lampenquelle, einem Wellenlängenmonitor und einer Steuereinheit. Das Substrathandhabungswerkzeug umfasst einen festen Tisch zum Halten des Substrats sowie mehrere Stufen für Transport, Transportsteuerung und Positionierung. Die Maske wird verwendet, um eine gewünschte Form und Muster auf dem Substrat zu bilden, und ist in der Regel aus Glas oder Metall. Es wird mit einer Reihe von Manipulatoren exakt auf das Substrat ausgerichtet. Die Lampenquelle ist eine linear angeordnete UV-Quelle und liefert Strahlungsimpulse mit einer bei einer Wellenlänge von 365nm zentrierten Spitzenemission. Es ist in der Lage, sowohl im normalen als auch im Hochleistungsbetrieb zu arbeiten. Ein Wellenlängenmonitor wird verwendet, um eine konstante Lampenintensität und Gleichmäßigkeit der Belichtung über das Substrat zu gewährleisten. Die Steuerung dient zur Steuerung der gesamten Photolithographie. Das USI UH 110 Photolackmodell bietet eine Umgebung für produktionsübliche Photomasken. Dieses Gerät wurde speziell entwickelt, um große Flächen mit konsistenter Schichtdicke und Gleichmäßigkeit zu drucken. Das System ist mit einer fortschrittlichen Bildverarbeitungseinheit ausgestattet, die sicherstellt, dass die Maskenbilder genau und konsistent sind. Es enthält auch einen leistungsstarken Algorithmus zur automatisierten Fehlererkennung und -korrektur. Das UFI unterstützt eine breite Palette von Photoresists wie Trockenfilm, Flüssigfilm, Epoxid und Photoresists auf Silberbasis. Mit seiner präzisen Steuerung und erweiterten Bildgebungsfunktionen kann das UFI eine beliebige Anzahl von Mikrostrukturen mit hoher Genauigkeit und Geschwindigkeit produzieren. ULTRON SYSTEMS INC UH 110 Photolackmaschine hat gegenüber anderen Photolithographiesystemen mehrere Vorteile. Es hat eine schnelle Bildverarbeitungszeit aufgrund seiner hochfrequenten linearen Lampenquellen und Wellenlängenüberwachungswerkzeug. Darüber hinaus kann das UFI eine Vielzahl von Substraten handhaben, einschließlich Glas, Metall, Keramik und Kunststoff. Es hat einen geringen Betriebskosten, da die Lampenquelle keine zusätzlichen Netzteile benötigt. Darüber hinaus bietet das UFI eine Vielzahl von Bildverarbeitungs- und Steuerungsfunktionen wie Hintergrundsubtraktion, Bildskalierung, Maskenausrichtung, Fehler- und Linienbreitenkompensation und vieles mehr. So kann der Anwender schnell und präzise qualitativ hochwertige Bilder erzeugen.