Gebraucht ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 114 #9237154 zu verkaufen

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 114 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um Silizium-Wafer mit einer Lichtquelle für Präzisionsleistung zu ätzen und zu entwickeln. Mit fortschrittlicher Lichtabbildungstechnologie erreicht USI UH 114 präzise belichtete Fotoresist-Bildmuster auf Wafern bis 200 mm Durchmesser und beschichtet sie mit hochwertigem Resist. Das Photolacksystem verfügt über eine vollautomatische Spur- und Ausrichteinheit und einen fortschrittlichen automatisierten Sprühprozess für exakte Leistung auf einer Vielzahl von Siliziumwafern. ULTRON SYSTEMS INC UH114 ist in der Lage, die Einheitlichkeit, die Prozessgeschwindigkeit, die Registrierung von Linie zu Linie und die globalen Registrierungsmerkmale präzise zu steuern. Es ist auch in der Lage, die optimalen Verarbeitungsparameter für die beste Resist-Profilleistung zu bestimmen. Die Maschine verwendet einen hochauflösenden (HR) Stepper, um Anwendern eine Hochgenauigkeitsbildgebung und eine genaue Belichtungssteuerung zu bieten. Der Stepper bietet die Prozesswiederholbarkeit und Genauigkeit, die für den Druck von hochauflösenden lithografischen Bildern erforderlich sind. UH114 ist in der Lage, eine Vielzahl von Fotomaskentypen zu verwenden, einschließlich, aber nicht beschränkt auf Quarz, Chrom-auf-Quarz (EtchMask), Glas und GaAs. Dieses Werkzeug unterstützt auch eine Hochgeschwindigkeits-Waferbewegung, die höhere Erträge ermöglicht. UH 114 kann in zwei, drei oder vier Belichtungsmodus basierend auf Kundenpräferenzen arbeiten. In zwei Belichtungsmodi wird der Wafer gleichzeitig zwei Photolackschichten ausgesetzt. In drei Belichtungsmodi ist eine klare Filmschicht zwischen den Photolackschichten enthalten, um die Gleichmäßigkeit zu erhöhen und den Kreuzhalogen zu reduzieren. In vier Belichtungsmodi wird eine Flutbelichtung verwendet, um den Photolack gleichmäßig über die gesamte Waferoberfläche aufzubringen. ULTRON SYSTEMS INC UH 114 bietet auch proaktive Diagnostik, um sicherzustellen, dass jedes Photomaskenmuster während der Ätztrennung und -entwicklung vollständig erfüllt wird. Es ist mit einer Nassätzprüfstation ausgestattet, die es Anwendern ermöglicht, die Photomasken-Nachätzung und -Entwicklung zu überprüfen, um eine hohe Ausbeute zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt das Asset über eine integrierte Verifizierungsstation, um die Waferoberfläche auf etwaige Mängel zu untersuchen. ULTRON SYSTEMS INC/USI UH114 integriert fortschrittliche Technologien, um eine verbesserte Betriebsleistung mit hochpräzisen Ergebnissen zu erzielen. Ein sicheres Konfigurationsmodell sorgt für präzise wiederholbare Prozesse und verbesserte Waferausbeuten. Es wurde entwickelt, um Anwendern zuverlässige Ergebnisse in einer zuverlässigen Betriebsumgebung zu bieten.