Gebraucht ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 114 #9292713 zu verkaufen

ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 114
ID: 9292713
Wafergröße: 6"
Wafer mounter, 6"
ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 114 ist eine voll ausgestattete Fotoresistausrüstung. Zu den Funktionen gehören erweiterte Musterfunktionen, hohe Durchsatzleistung und Prozesskontrollgenauigkeit. Das Photolacksystem verfügt auch über automatische Flüssigkeitshandhabungsfunktionen und integrierte Analysewerkzeuge, um gewünschte Auflösungen und Mustergenauigkeiten zu erreichen. Die Photolackeinheit arbeitet durch Übertragung eines Energiemusters eines entworfenen Layouts auf eine Substratoberfläche. Die Maschine belichtet das Substrat dann einem Lichtstrahl hoher Intensität, der moduliert wird, um ein gewünschtes Muster auf der Oberfläche des Substrats zu erzeugen. Der Lichtstrahl wird durch ein Leuchtdioden (LED) -Array erzeugt, das mit einer Elektronenstrahlquelle und einem Steuerwerkzeug verbunden ist. Der Strahl wird dann von einem optischen Gut geführt, das den Strahl derart streut, dass er dann auf die Substratoberfläche fokussiert wird. Das Photolackmodell wurde entwickelt, um eine genaue und wiederholbare Strukturierung von mikroelektronischen Bauelementen und Schaltungen zu ermöglichen. Es bietet auch sehr hochauflösende Bildgebungsfähigkeiten aufgrund seiner genauen Steuerung der Lichtintensität, der zeitlichen und räumlichen Genauigkeiten und der Intensitätsmodulation. Die Photolackausrüstung verfügt über eine breite Palette von Musteroptionen, einschließlich eines Mehrschichtprozesses, der eine präzise 3D-Musterung komplexer Geräte ermöglicht. Darüber hinaus kann das System je nach Schaltungstyp und Layout-Komplexität in einer Vielzahl von Lithographieverfahren eingesetzt werden. Die Photoresist-Einheit bietet auch leistungsstarke Ergebnisse in Bezug auf Durchsatzleistung, Kantendefinition, Overlay-Genauigkeit und Mustertreue. Es ist sehr zuverlässig konzipiert und ist auch mit einer Vielzahl von verschiedenen Substraten kompatibel. Insgesamt ist USI UH 114 eine Hightech-Photoresist-Maschine, die erweiterte Musteroptionen und präzise Abbildungsergebnisse bietet. Seine breite Palette von Funktionen machen es ideal für viele Branchen wie die Halbleiterindustrie, wo hohe Präzision und Genauigkeit von höchster Bedeutung ist.
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