Gebraucht ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 114 #9294201 zu verkaufen

ID: 9294201
Wafer taper Power supply: 115 V, 3 Amps.
ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 114 ist eine hochmoderne Photolackausrüstung der nächsten Generation, die speziell für Anwendungen mit hohem Durchsatz und hoher Auflösung entwickelt wurde. Dieses System ist für ultrahochauflösende Bildgebung optimiert, mit überlegener Belichtungsgenauigkeit und extrem geringer Back- und Schälzeit. Die fortschrittliche Photolithographie-Technologie von USI UH 114 bietet eine überlegene Prozesssteuerung für die anspruchsvollsten Substrate, einschließlich der anspruchsvollsten Strukturen der Halbleiterindustrie. Das Gerät verwendet die neuesten Technologien in fortschrittlicher Bildanalyse-Software, die eine gründlichere Bildauflösung, eine engmaschige Kontrolle der Auflösungen und eine genaue Inspektion bestehender Strukturen ermöglicht, um eine außergewöhnlich hohe Drucktreue im Produktionsprozess sicherzustellen. ULTRON SYSTEMS INC UH114 verwendet einen einzigartigen In-situ-Sensor, der Echtzeitdaten zu Belichtungsniveau, Substrattemperatur und Substratoberflächentopologie liefert. Dies ermöglicht eine präzise Prozesssteuerung und Reduktion von unerwünschten Photoresistresten. Die Maschine enthält auch eine robuste Controller-Suite, um eine genaue Ausrichtung des Wafers auf das Bild für eine maximale Substratabdeckung zu gewährleisten. Das Werkzeug ist so konfiguriert, dass es eine breite Palette von Fotolackstärken verarbeitet, sodass Benutzer eine möglichst genaue Bildgebung, Verarbeitung und Belichtungszeit erzielen können. ULTRON SYSTEMS INC UH 114 verfügt zudem über eine integrierte, ultrahochauflösende Kamera für eine bessere Bildgebung sowohl bei der Entwicklung als auch bei der Verarbeitung. UH114 photoresist Asset enthält auch einen hochgenauen und effizienten automatischen Belichtungsmechanismus, der manuelle Variationen der Belichtungseinstellungen eliminiert. Dies beseitigt menschliche Fehler im Prozess und ermöglicht es Anwendern, präzise, gleichmäßige Belichtungen während des gesamten Photolithographie- und Bildgebungsprozesses zu erzielen. Dieses Modell verfügt auch über eine leistungsstarke, dynamische Ausrichtungsausrüstung, die konsistente Bilder über die gesamte Oberfläche jedes Wafers gewährleistet. USI UH114 verfügt über eine extrem niedrige Back- und Schälzeit und bietet im Vergleich zu herkömmlichen Photoresist-Werkzeugen höhere Durchsatzraten. Das System umfasst auch eine Reihe fortschrittlicher Funktionen wie Hochgeschwindigkeits-Scan und wiederholbare Datenerfassung, die garantieren, dass die beste Belichtungszeit und optimale Bildqualität erreicht werden. Die Photoresist-Einheit UH 114 bietet eine neue Präzision in Photolithographie- und Bildgebungsprozessen für die anspruchsvollsten Substrate. Mit seinen fortschrittlichen Photolithographie-Technologien, einem effizienten automatischen Belichtungsmechanismus, einer leistungsstarken dynamischen Ausrichtungsmaschine und einer ultrahochauflösenden Kamera bietet das Tool einen zuverlässigen Hochdurchsatzprozess für die Schaffung der komplexesten Strukturen. Darüber hinaus ist die geringe Backzeit der Anlage eine ideale Lösung für Projekte mit engen Verarbeitungsanforderungen.
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