Gebraucht ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 130 #9169213 zu verkaufen

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 130 ist eine Photolackausrüstung, die speziell für die Photolithographie entwickelt wurde. Dieses Werkzeug ermöglicht die hochpräzise Herstellung komplizierter Muster für die High-End-Produktion von Schaltungen, Sensoren und anderen komplexen Komponenten. Herzstück dieses Photoresist-Systems ist eine ultrahochauflösende Weitwinkel-Projektionslinse, die für Präzisionslinien und Musterabgrenzungen optimiert ist. Diese Linse kann verwendet werden, um eine Reihe von komplexen Mustern bis zu einem Nanometer breit genau zu projizieren, und ist auch robust genug, um Mehrfachbelichtungen zu handhaben. Darüber hinaus verfügt USI U130 auch über eine hochauflösende Digitalkamera, die eine präzise Ausrichtung von Objekten und eine zuverlässige Musterauflösung gewährleistet. Die USI UH 130 Emulsion ist die ideale Beschichtung für komplexe Komponenten und ist sowohl in alkalischen als auch in sauren Alternativen erhältlich. Seine dicken, wiederholbaren, hochauflösenden Beschichtungen sind wasserlöslich, so dass sie leicht mit einer alkalischen/sauren Spülung gereinigt werden können. Darüber hinaus umfasst diese Photolackeinheit auch eine Master-Board-Maschine mit Registrierungs- und Auto-Alignment-Funktionen, so dass Benutzer Objekte zum Ätzen präzise positionieren können. Dieses Photoresist-Werkzeug verfügt zudem über eine effiziente Kühlung, so dass die Temperatur von Photomaske und Substrat während des Belichtungsprozesses auf einem präzisen Niveau gehalten wird. Dies gewährleistet langfristige Zuverlässigkeit und vermeidet übermäßiges Brennen oder Image-Ghosting. Schließlich kommt ULTRON SYSTEMS INC UH 130 auch mit einer leistungsstarken, benutzerfreundlichen Software für die einfache Verwaltung aller seiner Funktionen und Funktionen. Sein intuitives, menügesteuertes Modell ermöglicht es Benutzern, den Betrieb schnell einzurichten und zu beginnen sowie eine präzise Kontrolle über die Belichtungszeit und die Punktgrößen zu erhalten. UH 130 ist das perfekte Werkzeug für Anwenderanforderungen in komplexen Halbleiter- und Photolithographieanwendungen. Mit seinem hochauflösenden Projektionsobjektiv und seiner fortschrittlichen Digitalkamera können präzise Muster schnell und mit ausgezeichneter Wiederholbarkeit erzeugt werden. Dank seiner benutzerfreundlichen Software ist es auch einfach zu bedienen und dank seiner effizienten Kühlausrüstung sehr langlebig. Durch Investitionen in dieses Photoresist-System können Unternehmen schnell und mit hervorragenden Ergebnissen komplexe Komponenten produzieren.