Gebraucht ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 130 #9171536 zu verkaufen

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 130 Photoresist Equipment ist ein zuverlässiges und vielseitiges Instrument, das auf die spezifischen Bedürfnisse eines industriellen Labors zugeschnitten ist. Dieses System nutzt fortschrittliche optische und chemische Prozesse, um eine überlegene Übertragung von Bildern auf eine breite Palette von Substraten zu ermöglichen. Durch die Kombination von Belichtungsverfahren wie Maske-Substrat-Direktkontaktbelichtung und Projektionsbelichtung bietet die USI UH 130 Photoresist Unit Flexibilität und Sicherheit sowie überlegene Leistung. ULTRON SYSTEMS INC UH 130 Photoresist Machine verfügt über zwei Hauptkomponenten für die Belichtung: eine breite ultraviolette Lichtquelle und eine Photoresist-Kassette, die belichtungsprogrammierbare Widerstände enthält. Diese Komponenten arbeiten in Kombination, um einen dünnen Film aus Photolack auf der Oberfläche verschiedener Substrate wie Polyimid und PVC zu erzeugen. Mit der Belichtungstechnik des direkten Kontaktes kann der Photolack dann an der Probe haften, einen Schutz vor der Umgebung bieten und eine funktionierende Verbindung zwischen Bild und Substrat herstellen. Die Optik in UH 130 Photoresist Tool ermöglicht einen weiten Belichtungsbereich, mit höherer Leistung je nach Substrattyp und gewünschter Merkmalsgröße. Das Asset liefert Laserintensität bis 1.7mW/cm2 und einen Arbeitsabstand von 0,1 mm bis 20 mm. Ein verstellbarer Maskenhalter ermöglicht auch einen Maskengrößenbereich von 20mm bis 160mm. Durch die chemische Transfertechnik von ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 130 Photoresist Model entfällt das Nachfüllen, was den Belichtungsprozess weiter verschlankt. Photolack kann aus der Kassette ausgespült werden, so dass eine chemische Übertragung zwischen den beiden Oberflächen von Bild und Substrat möglich ist, ohne dass eine zusätzliche chemische Adhäsion erforderlich ist. Zusätzlich zu seinem chemischen Transferprozess bietet das USI UH 130 Photoresist Equipment zusätzliche Diagnosefunktionen, die die Fehlerbehebung erleichtern. Diese Funktionen umfassen eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche und Fernbedienungsoptionen, die detailliertes Feedback liefern. Sein intuitives Vakuumsystem steuert die Druckniveaus und gewährleistet präzise und wiederholbare Ergebnisse für höchste Gleichmäßigkeit der Funktionen. Darüber hinaus kann ULTRON SYSTEMS INC UH 130 Photoresist Unit in einer Vielzahl von Umgebungen arbeiten. Es ist für den Einsatz in Reinräumen der Klassen A, B oder C zertifiziert, wo es auch bei Temperaturen von -20 ° C bis + 50 ° C betrieben werden kann. Schließlich bietet UH 130 Photoresist Machine überlegene optische, chemische und Umweltmanagementprozesse, um den Photoresist-Anwendungsprozess zu optimieren. Seine breite Palette an Funktionen, kombiniert mit diagnostischem Feedback und einer intuitiven Benutzeroberfläche, machen ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 130 Photoresist Tool zu einer ausgezeichneten Wahl für jede industrielle Laboreinstellung.