Gebraucht ULTRON UH 101 #142775 zu verkaufen

ULTRON UH 101 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die bei der Herstellung integrierter Schaltungen und fortschrittlicher Mikrogeräte verwendet wird. Photoresists sind Materialien, die ihre chemischen oder physikalischen Eigenschaften ändern, wenn sie Licht ausgesetzt sind und verwendet werden können, um Muster auf ein Substrat zu übertragen. Herkömmliche Photoresists werden mit einer Basisschicht, die üblicherweise ein lichtempfindliches Polymer ist, und einer Deckschicht formuliert, die typischerweise eine Verbindung enthält, die in dem im Ätzverfahren verwendeten Entwickler unlöslich ist. Das UH 101 System ist eine benutzerfreundliche und kostengünstige Lösung für die Produktion integrierter Schaltungen. Die Einheit besteht aus einem 4-Schicht-Resist und einem Zwischenschicht-Resist. Der 4-Schicht-Resist kombiniert sowohl das lichtempfindliche Polymer als auch eine Deckschicht und ist mit einer einzigen Schicht Photoresistmaterial formuliert. Dies reduziert die Anzahl der Prozesse und senkt die Komplexität der Photolithographie. Der Zwischenschichtresist bietet eine zusätzliche Schutzschicht mit verbesserten Hafteigenschaften und verbesserten Barriereeigenschaften, wodurch eine Entkopplung von Schichten beim Ätzen verhindert wird. ULTRON UH 101 Maschine verfügt auch über einen eingebauten Aktivierungs- und Ätzprozess, der entworfen ist, um Fehler in den gemusterten Schichten zu reduzieren, indem eine gleichmäßige Ätzrate ermöglicht wird. Darüber hinaus kann das UH 101-Werkzeug mit einer Vielzahl von Photomasken verwendet werden, wodurch komplexe Muster mit einer feineren Auflösung erzeugt werden können, als dies mit anderen Photoresistsystemen möglich wäre. Diese Flexibilität macht ULTRON UH 101 Asset zu einer großen Wahl für Mikromaschinen und andere Anwendungen, die eine hochauflösende Musterung erfordern. Zusammenfassend ist UH 101 ein Photolackmodell, das für die Produktion integrierter Schaltungen entwickelt wurde. Das Gerät bietet eine kostengünstige, benutzerfreundliche Lösung mit einem 4-Schicht-Resist und einem Zwischenschicht-Resist sowie einen eingebauten Aktivierungs- und Ätzprozess, der Defekte reduziert. ULTRON UH 101 System kann mit einer Vielzahl von Photomasken verwendet werden, so dass es eine ideale Wahl für hochauflösende Mikrobearbeitung.