Gebraucht UNIVERSAL PHOTONICS MS-61466 #293668925 zu verkaufen

UNIVERSAL PHOTONICS MS-61466 Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches, hocheffizientes System zur Erstellung von benutzerdefinierten Photoresist-Mustern und -Beschichtungen. Diese Einheit kann verwendet werden, um eine Vielzahl von benutzerdefinierten Photoresists wie Kieselsäure, Polyimid, Halbleiter und Lithographie-Grad-Resists zu erstellen. MS-61466 Maschine ist mit einem Micro-Controlled Photoresist Coating & Application Device, zwei UV-Einheiten, die eine hocheffiziente Belichtung mit Wellenlängen von 200-400nm bieten, und zwei Backöfen ausgestattet. Das Gerät verfügt über zwei Kameras, mit denen das Muster des Fotolacks bestätigt werden kann. Das Werkzeug ist auf höchste Qualität und Genauigkeit in Photolithographie-Prozessen ausgelegt. Es ist in der Lage, kundenspezifische Fotoresists mit Abmessungen von 0,1 μ m bis 100 μ m sowie gleichmäßige Resistlängen von 16mm x 16mm zu produzieren. Die hohe Präzision von UNIVERSAL PHOTONICS MS-61466 macht es für eine Vielzahl von Lithographieanwendungen geeignet, einschließlich der Strukturierung von Halbleiterbauelementen und Herstellungsschaltungen. Das Photowiderstehen wird mit der lösungsmittellosen, großen einheitlichen chemischen Bereichsanwendung angewandt verteilen Technik. Vor dem Aufbringen des Resists wird das Substrat mit OPC- und RCP-Reinigungsprozessen behandelt, um ein perfektes Fundament zu gewährleisten, auf dem die Schicht aufgebracht werden kann. Das hochpräzise Applikationsgerät sorgt für gleichmäßige Photolackdicke und -muster bei minimaler Spreizung. Die beiden in MS-61466 Anlage verwendeten UV-Einheiten bieten eine lange Belichtungszeit von bis zu 10 Minuten, was eine präzise Kontrolle des Musterprozesses ermöglicht. Dieses Modell ist für eine einheitliche Resist-Panel-Produktion sowie für kundenspezifische Resist-Muster konzipiert. Sein hochgenauer Backofen sorgt für eine gleichmäßige und zuverlässige Aushärtung des Fotolacks. Insgesamt ist UNIVERSAL PHOTONICS MS-61466 Photoresist Equipment eine fortschrittliche und effiziente Lösung für eine Vielzahl von Photolithographieverfahren. Es bietet gleichmäßige und genaue Beschichtungen und Muster sowie lange Belichtungszeiten, um eine genaue Kontrolle des Musterprozesses zu gewährleisten. Es ist ein sehr zuverlässiges System, das für eine Reihe von Lithographieanwendungen geeignet ist.