Gebraucht VACUUM DEVICE MSP-1S #293597453 zu verkaufen

VACUUM DEVICE MSP-1S Photoresist System ist ein automatisiertes Gerät, das photolithographische Aufgaben in der Elektronikindustrie erleichtert. Dieses Gerät bietet eine effektive Lösung für die zeit- und arbeitsintensiven Prozesse, die traditionell bei der Erstellung von Photomasken und Wafern benötigt werden. Kernkomponente der Vorrichtung ist eine Vakuumabscheidungskammer, mit der eine dünne, gleichmäßige Schicht aus Photoresistmaterial auf die Substratoberfläche vakuumiert wird. Die Kammer ist mit einem Quarzfenster ausgebildet, das zur Belichtung Licht durchläßt und auf die Substratoberfläche gerichtet ist. MSP-1S enthält auch eine Lichtquelle, typischerweise eine UV-Lampe oder einen Laser, die für eine optimale Belichtungsintensität einstellbar ist. Die Vorrichtung umfasst auch eine Kartierungsstufe zur genauen Ausrichtung des Substrats über den beleuchteten Bereich. Dies ermöglicht eine präzise Belichtung des Substrats an mehreren Stellen des Prozesses. Die Abbildungsstufe ermöglicht auch die Abbildung mehrerer Masken über ein einzelnes Substrat gleichzeitig, wodurch der Durchsatz erhöht und die Zykluszeit reduziert wird. Darüber hinaus können VACUUM DEVICE MSP-1S in automatischen oder halbautomatischen Modi laufen. Der halbautomatische Modus ermöglicht on-the-fly Anpassungen und eignet sich für Prototyping und Experimente, während der vollautomatisierte Modus für Produktionsläufe optimiert ist. Der automatisierte Modus ist weniger arbeitsintensiv, und da es weniger Betreiber erfordert, ist er schneller und kostengünstiger. Schließlich bietet MSP-1S umfassende Sicherheitsmerkmale mit besonderem Augenmerk auf Prozesssicherheit und Umweltvorschriften. Dieses Gerät soll die Verletzungsgefahr für Bediener reduzieren, da es mit einer geringeren Leistung als läuft. Darüber hinaus sorgt das Luftzirkulationssystem dafür, dass gefährliche Dämpfe beseitigt und zur sicheren Entsorgung gesammelt werden. Insgesamt ist VACUUM DEVICE MSP-1S Photoresist-System ein fortschrittliches Gerät, das eine effiziente und kostengünstige Lösung für die Herstellung von Photomasken und Wafern bietet. Dieses Gerät ist in der Lage, die Verarbeitung mehrerer Substrate mit Präzision, Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu automatisieren. Es bietet auch eine sicherere und umweltfreundlichere Alternative zu traditionellen Methoden der Photolithographie.