Gebraucht VARIAN Custom #182056 zu verkaufen

VARIAN Custom ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung, die entwickelt wurde, um ein hochpräzises und kostengünstiges Lithographieverfahren für die Halbleiterätzung und -herstellung bereitzustellen. Photoresist ist eine Art lichtempfindliches Material, das verwendet wird, um Muster oder Bilder auf Halbleiterscheiben oder anderen Substraten zu erzeugen. Wenn Photoresist bestimmten Wellenlängen des Lichts ausgesetzt wird, ändert sich seine chemische Zusammensetzung, was zu einem belichteten oder unbelichteten Bereich führt. Mit diesen belichteten und unbelichteten Bereichen können Schaltungen, Antennen und andere Schaltungen auf Wafern geätzt werden. Custom bietet eine hervorragende Leistung im Vergleich zu herkömmlichen Photoresist-Systemen, da es über eine Reihe anpassbarer Funktionen verfügt, mit denen Benutzer ihren Lithographieprozess genauer steuern können. Dieses System verfügt über eine erweiterte Photolackschicht-Funktion, die eine hervorragende Prozessfensterleistung ermöglicht. VARIAN Custom Photoresist-Einheit bietet auch überlegene Auflösung und sehr niedrige Defekte aufgrund seiner fortschrittlichen bildgebenden Eigenschaften. Es verfügt über eine innovative Bildverarbeitungsmaschine, die einen elektrooptischen Modulator enthält, um die Intensität und den Fokus von Lichtstrahlen einzustellen und eine hochauflösende Strukturierung zu ermöglichen. Darüber hinaus verwendet das Tool einen laserinduzierten Vorwärtsübertragungs (LIFT) Fokus und Ausrichtungstechnologie für genaue Fokuskontrolle und reibungsloses Scribing von Merkmalen. Darüber hinaus bietet Custom automatisierte Ausgabesteuerungen, mit denen Benutzer ihre gewünschten Musterparameter mit einfach zu bedienender Software anpassen können. Darüber hinaus verfügt das Asset über eine integrierte Temperatursteuereinheit und ein fortschrittliches, strukturiertes Optik-Feedback-Modell für maximale Prozesssicherheit. Insgesamt ist VARIAN Custom eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um einen effizienten Lithographieprozess zur Erstellung von Mustern oder Bildern auf Halbleiterscheiben oder anderen Substraten bereitzustellen. Dieses System bietet eine hervorragende Leistung im Vergleich zu herkömmlichen Photoresist-Systemen mit erweiterten Bildgebungs- und Ausgabesteuerungsoptionen und anderen anpassbaren Funktionen. Infolgedessen kann Custom Benutzern helfen, Zeit und Geld zu sparen und gleichzeitig hochwertige Produkte zu produzieren.