Gebraucht VERTEQ 1600-2 #9169238 zu verkaufen

Hersteller
VERTEQ
Modell
1600-2
ID: 9169238
Dual stack spin rinser dryer FLUROCARBON 1600 Super Clean Parts machine.
VERTEQ 1600-2 ist ein fortschrittliches Photoresist-Produktionssystem, das entwickelt wurde, um Funktionsgrößen bis zu 0,2 µm bei hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu erstellen. Diese Einheit besteht aus einer Fördermaschine, einem Regler und einem Photolackbeschichtungs- und Belichtungsprozessmodul. Das Förderwerkzeug umfasst einen Mikropositionierroboter zur präzisen Bewegung einer spindelgelagerten Substratplatte. Werkzeugausstattung ermöglicht eine breite Palette von Substraten und Größen. Dies bietet hohe Genauigkeit und geringe Latenz bei Belastungs- und Entladezeiten von drei Sekunden. Die Spindel verwendet eine Standardsteigung, um eine Vielzahl von Substraten und Substratgrößen für Plug-n-Play Benutzerfreundlichkeit unterzubringen. Der Onboard-Controller verfügt über einen programmierbaren Logikcontroller (SPS), der in die optische Asset-Schnittstelle für automatisierte Extraktion, Lieferung und Standort integriert ist. Mit dieser Schnittstelle ermöglicht ein einzigartiges universelles Design die Messung und Aufzeichnung von einer Vielzahl von Substrattypen, wobei Merkmale und Daten in einer kontinuierlichen Datenspur gespeichert sind. Die SPS ist mit separaten Programmierbibliotheken programmiert, um die Bewegung des Roboters, Beschleunigung und Verzögerung der Spindel und andere Faktoren zu steuern. Schließlich bietet das hochmoderne Photoresist-Prozessmodul eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit über den aktiven Bereich mit einem speziellen Algorithmus, der verwendet wird, um die Substratgröße und das Formprofil genau anzupassen. Dieses Modul bietet eine hervorragende Kontrolle der Widerstandsdicke und ermöglicht eine genaue Kontrolle der Widerstandsdicke über eine breite Palette von Schichtdicken. Hochpräzise, hohe Wiedergabefähigkeiten werden durch den Einsatz der spezialisierten Optik und Photomaske des Moduls erreicht. Insgesamt 1600-2 Photoresist Modell ist für Vakuumabscheidung ausgelegt und widersteht bis zu 0,2 µm Größe. Programmierbare SPS und intelligente Liefergeräte sorgen für hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Spezielle Optik ermöglicht die präzise Kontrolle der Resistdicke und eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit über den aktiven Bereich. VERTEQ 1600-2 ist eine ausgezeichnete Wahl für Photolackanwendungen in der Halbleiter-, Mikroelektronik- und Biotechnologie-Industrie.
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