Gebraucht VERTEQ 1600-3 #9196056 zu verkaufen

VERTEQ 1600-3 ist eine hochmoderne, dreistrahlige photolithographische Ausrüstung zur Abbildung einer Vielzahl von Resists. Es verfügt über eine fortschrittliche Laserquelle, ein optisches System und empfindliche optische Detektoren, um präzise Ergebnisse zu gewährleisten. Das Gerät liefert hohen Durchsatz, hohe Auflösung und hohe Durchsatzgenauigkeit bei der Abbildung variabler Resistdicken auf großen Substraten. 1600-3 verwendet drei verschiedene Laserstrahlen, um großflächige Scans mit optischen Nahfelddetektoren zu ermöglichen, um genaue Ergebnisse über einen breiten Bereich von Resistdicken zu gewährleisten. Die Laserquellen werden von einer robusten Steuerungssoftware angetrieben, die eine hohe Durchsatzleistung liefert. Die optischen Systeme verfügen über eine patentierte NanoFeedback™-Technologie, die die bildgebenden Bedingungen aktiv überwacht, um Genauigkeit und Durchsatz zu optimieren. Die integrierte Rezept-Management-Maschine ermöglicht eine schnelle Rezept-Bearbeitung und Kalibrierung von Prozessparametern. Das Werkzeug ist zudem sehr modular aufgebaut und kann für Produktionslithographieanwendungen konfiguriert werden. Verschiedene Substrat-Management-Optionen stehen für Substrat-Handling, Substrat-Sitze und Substrat-Abstandsregelung zur Verfügung. Neben der Bildgebung ist VERTEQ 1600-3 Asset in der Lage, einen dreidimensionalen Mapping- und Bilddurchsatz von bis zu 25 Wafern pro Stunde zu erzielen. Das einzigartige Design des Modells ermöglicht auch eine Automatisierung der Vakuumausrüstung mit hoher Präzision, was zu einer besseren Haftung und Leistung während der Bildgebung führt. Darüber hinaus verfügt das System über eine automatisierte Bibliothek mit bildgebenden Rezepten zum einfachen Abrufen und Bearbeiten vorhandener Rezepte. Insgesamt bieten 1600-3 Photoresist-Einheit zuverlässige und genaue Bildgebung für Widerstände unterschiedlicher Dicken. Die robuste Konstruktion der Maschine, vielseitige Laserquellen und sensible Detektoren machen sie zu einer idealen Wahl für eine Reihe von Photolithographie-Anwendungen, von Multiplexing über Maskierung und Bildgebung.