Gebraucht VERTEQ 1600-3 #9203711 zu verkaufen

Hersteller
VERTEQ
Modell
1600-3
ID: 9203711
Spin rinse dryers (2) Control boxes.
VERTEQ 1600-3 Photoresist Equipment ist eine vollautomatische Maschine für hochpräzise Photolithographie auf Leiterplatten, Wafern und anderen mikroelektronischen Komponenten. Dieses fortschrittliche System wurde entwickelt, um überlegene Photoresist-Prozesse zu bieten und gleichzeitig höchste Präzision und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. 1600-3 verfügt über ein hocheinstellbares LCD-Panel (Liquid Crystal Display) mit einem beeindruckenden Kontrastverhältnis, das für überlegene Bildklarheit sorgt. Dies ermöglicht eine einfache Programmeingabe über eine praktische grafische Benutzeroberfläche (GUI). Um die Genauigkeit zu gewährleisten, orientiert eine eingebaute Kalibriereinheit die Fotomaske, um eine exakte Photoresistabdeckung zu gewährleisten. VERTEQ 1600-3 verwendet eine digitale Bildprojektormaschine, die eine breite Palette von Bildformaten unterstützt, einschließlich 8-Bit- und 10-Bit-BMP, JPEG, TIFF und Bitmap. Diese Bilder werden direkt von einem USB-Laufwerk gelesen, das über das integrierte Bewegungswerkzeug oder über einen Hostcomputer gesteuert werden kann. Der Bildprojektor dient auch dazu, die Fotomaske genau zu positionieren und den Fotolack aufzubringen. Der flüssige Photoresist ermöglicht eine präzise Anwendung von Photoresist mit minimalem Abfall. Dieses Modell passt die Menge des Photolacks an, der mit einer Genauigkeit von +/- 5 Mikrometern auf das Substrat gesprüht wird, während die Parameter wie Temperatur, Sprühdruck und Winkel gesteuert werden. Die Ergebnisse sind konsistent, einheitlich und fehlerfrei. 1600-3 Photoresist Ausrüstung verwendet rotierende Sprühdüsen für verbesserte Genauigkeit. Durch das präzise Spritzverfahren wird sichergestellt, daß der Photolack gleichmäßig und ohne Verschmutzung von benachbarten Substraten auf das vorgesehene Substrat aufgebracht wird. Das integrierte Wafer-Loader-System ermöglicht eine einfache Beladung und Positionierung einzelner Substrate mit einer Toleranz von +/- 5 Mikrometern. Es verfügt auch über perforierte Heber, die sicherstellen, dass das Substrat fest an Ort und Stelle gehalten wird. Schließlich ist die Maschine mit einem Not-Aus-Knopf für zusätzliche Sicherheit ausgestattet. VERTEQ 1600-3 ist für die hochpräzise Photolithographie-Verarbeitung konzipiert und eignet sich hervorragend für mikroelektronische Anwendungen. Es verfügt über eine Reihe von Funktionen, die eine überlegene Photolackgenauigkeit und Wiederholbarkeit sowie eine ausgeklügelte flüssige Photolackeinheit und eine integrierte Wafer-Lademaschine gewährleisten. Diese Eigenschaften machen es zu einer idealen Wahl für alle, die nach einem zuverlässigen und kostengünstigen Photolithographie-Tool suchen.
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