Gebraucht VERTEQ 1600-3 #9209716 zu verkaufen

VERTEQ 1600-3 ist eine spezielle Photoresist-Ausrüstung für die Präzisionswaferbearbeitung. Dieses bewährte System ist in der Halbleiterindustrie weit verbreitet, um hohe, wiederholbare Qualitätsergebnisse bei kritischen Prozessen wie Photolackbeschichtung, Belichtung und Entwicklung von Fotostrukturen zu erzielen. 1600-3 hat einen kompakten Aluminiumguss-Rahmen, der ihn leicht und robust für mobile und industrielle Anwendungen macht. Es verfügt über eine vollkonturige, z-Achsen-Höhenverstelleinheit für eine optimale vertikale Position der Waferplatte. Es ist auch mit einer rotierenden Waferklemme ausgestattet, um eine gleichmäßige Belichtung zu gewährleisten. Diese Maschine verfügt über einen Vollspektrum-Bildprojektor auf Xenonbasis mit Autofokus für außergewöhnliche optische Leistung. Es wird von verschiedenen Softwaremodulen unterstützt, die zur Erzeugung einer Vielzahl von fotografischen Auflösungen erforderlich sind und eine genaue Steuerung des Belichtungsenergieflusses ermöglichen. Es verfügt auch über ein umfassendes Indexierungswerkzeug, das eine präzise Positionierung und Abtastung der Waferplatten ermöglicht VERTEQ 1600-3 verfügt über zwei vorinstallierte Prozesskammern für Beschichtung, Belichtung und Entwicklungsprozesse. Es wird mit einer Edelstahlplatte zur gleichmäßigen Verteilung des Beschichtungsmaterials und einer Rückseitenplatte zum Entfernen von Restfotoresistmaterial geliefert. Alle Funktionen werden über die beiliegende Touchscreen-Benutzeroberfläche gesteuert, die klare, vollfarbige Grafiken und einfache benutzerfreundliche Menüs für eine einfache Bedienung bietet. 1600-3 wird mit einer Reihe von umfassenden Photoresist Chemie-Kits geliefert, sowie eine vollständige Palette von Zubehör, einschließlich Wafer Pinzette, Träger und Rührwerke. Das Asset ist vorvalidiert und kann für die Verarbeitung von Substraten mit einem Durchmesser von bis zu 13 Zoll verwendet werden. VERTEQ 1600-3 ist ein professionelles, hochwertiges p hotoresist-Modell, das hervorragende Ergebnisse und Benutzerfreundlichkeit für eine Reihe kritischer Photolackprozesse liefert. Seine geringe Größe ermöglicht es, in einer Vielzahl von verschiedenen Umgebungen verwendet werden, und es ist die perfekte Lösung für diejenigen, die eine zuverlässige, wiederholbare Lösung mit überlegenen Leistungseigenschaften suchen.