Gebraucht VERTEQ 1600-33 #84724 zu verkaufen

VERTEQ 1600-33 ist eine hochmoderne Photolackausrüstung, die für Photolackanwendungen in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Dieses fortschrittliche System wurde entwickelt, um hervorragende Ergebnisse sowohl in der Wafer-Bildgebung als auch in der Entwicklung zu liefern. Mit einer Hochleistungslichtquelle mit integriertem Raumfilter und variablem Frequenzregler bietet 1600-33 hervorragende Leistung und maximale Ausbeute. Mit seinem hochauflösenden Projektionsobjektiv bietet VERTEQ 1600-33 eine unvergleichliche Leistung in der Wafer-Bildgebung. Dieses Gerät ist mit Präzisionsausrichtungs- und Spannfunktionen ausgelegt, die eine perfekte Parallelität zwischen der Maske und dem Substrat gewährleisten und eine maximale Auflösung ermöglichen. Darüber hinaus tragen die In-situ-Kalibrierfunktionen dazu bei, die Ausrichtungsgenauigkeit im Laufe der langfristigen Nutzung sicherzustellen. Im Entwicklungsprozess bietet 1600-33 aufgrund seiner fortschrittlichen Mustererkennungsmaschine hervorragende Ergebnisse. Es verwendet fortgeschrittene Bilderkennungssoftware, um Maskenmuster zu identifizieren, die eine Hochgeschwindigkeitsentwicklung mit hoher Genauigkeit ermöglichen. Sein einzigartiger Schwenktischmechanismus ermöglicht eine schnellere und effizientere Wafer-Neigung-Entwicklung, was zu einer besseren Abdeckung und einem höheren Ertrag führt. In Bezug auf Sicherheit und Komfort ist VERTEQ 1600-33 mit einer Vielzahl von benutzerfreundlichen Funktionen konzipiert. Das Durchlaufdesign sorgt dafür, dass sich das Personal schnell und sicher um das Werkzeug manövrieren kann. Die benutzerfreundliche Software wurde entwickelt, um die Trainingszeit des Bedieners zu minimieren und sicherzustellen, dass der Bediener schnell mit der Arbeit beginnen kann. Es bietet auch Timer-Steuereinstellungen und Wartungsaufzeichnungen, um Sicherheit und Genauigkeit zu gewährleisten. Insgesamt ist 1600-33 ein hochmoderner Photoresist, der auf maximale Leistung und Ertrag ausgelegt ist. Seine leistungsstarke Lichtquelle und fortschrittliche Bilderkennungssoftware sorgen für überlegene Wafer-Bildgebungs- und Entwicklungsergebnisse. Darüber hinaus minimieren die zahlreichen benutzerfreundlichen Funktionen die Trainingszeit und garantieren einen sicheren Betrieb.