Gebraucht VERTEQ 1600-55M #9241976 zu verkaufen

VERTEQ 1600-55M ist eine vielseitige und leistungsstarke Belichtungsanlage für Photoresists in mikroelektronischen, nanoskaligen Geräte-Lithographieanwendungen. Dieses System bietet eine Vielzahl von Funktionen und Funktionen für eine Reihe von Anwendungen, einschließlich Photomasken-Produktion, MEMS, Halbleiterbauelementherstellung, nanoskalige Strukturierung und MEMS-Herstellung. 1600-55M verwendet ein 6-Zoll-Spannfutter und ein 55-Meilen-Lithographen-Auflösungsfeld, um sicherzustellen, dass genaue und zuverlässige Ergebnisse erzielt werden. Die Oberfläche des Futters ist für außergewöhnliche Ebenheit planarisiert, wodurch ein einheitliches Substrat zur Optimierung der Gleichmäßigkeit und Genauigkeit der Musterbelichtung geschaffen wird. Darüber hinaus ist dieses Gerät mit einer hochpräzisen X-Y-Stufe ausgestattet, die das Bild exakt über das Substrat positioniert und überträgt. Diese Funktion ermöglicht eine präzise Bildregistrierung für jede Belichtung und sorgt dafür, dass der Fotolack gleichmäßig ist. Die Maschine verfügt außerdem über einen integrierten Lichtstrahl-Positionierer, mit dem Benutzer den Bildprojektor über das Substrat genau ausrichten können. Dies ermöglicht eine genaue Maskenausrichtung und bietet Benutzern die Möglichkeit, Bilder einfach von einem Wafer zum anderen abzustimmen. Das Tool wird durch ein innovatives Softwarepaket angetrieben, das eine automatisierte Speicherung, Abruf und Analyse von Bildern ermöglicht. Mit diesem Paket können Benutzer das Asset schnell und effizient einrichten und betreiben. VERTEQ 1600-55M verwendet eine hochmoderne und robuste UV-LED-basierte Belichtungsquelle, die für höchste Belichtungsqualität konzipiert ist. Dies ist eine kurzwellige UV-LED-Quelle mit einer Emission von 254 nm, die die beste Wellenlänge für die Belichtung von Photoresists ist. Dies ermöglicht die Wiederholbarkeit und Stabilität von Parametern für die Photolackbelichtung auch bei niedrigen Dosen. Darüber hinaus verfügt das Modell über zwei verschiedene Optionen für die Objektivmontage: eine für Photomaskenanwendungen oder eine kernlose Linse für die Auflösung von Sub-Millimetern. Das kernlose Objektiv verfügt über eine Auflösungsfähigkeit von einem Millimeter Eigenschaftsgröße und einen Schwenkwinkel von bis zu 45 Grad. All diese Eigenschaften machen 1600-55M ideal für eine Vielzahl von Photolackanwendungen.