Gebraucht VERTEQ 1600-55M #9245629 zu verkaufen

VERTEQ 1600-55M Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches Photolithographiesystem zur Fotolackmusterung auf verschiedenen Substraten. Dieses Gerät ist eine optimale Lösung für die Belichtung von großen Substraten und Belichtung von hochauflösenden Mustern bis zu 10 μ m. Es verfügt über eine präzise Belichtungsgleichförmigkeit und Auflösung mit einer LED-basierten Lichtquelle, die eine konsistente Beleuchtungsintensität über seinen 6-Zoll aktiven Scanbereich erzeugt. Es unterstützt einen breiten Wellenlängenbereich und filtert nur die Fotodioden, die der gewünschten Wellenlänge und dem Polarisatorzustand des Maskenbildes entsprechen. Es ist kompatibel mit einer Reihe von Substratmaterialien, einschließlich Germanium, Silizium, Galliumarsenid und Quarz. 1600-55M verfügt über fünf benutzerfreundliche Betriebsmodi - Photoresist-Entwicklungsmodus, automatischer Ausrichtungsmodus, Mehrfachbelichtungsmodus und Bildanpassungsmodus -, die es Anwendern erleichtern, die gewünschten Einstellungen zu konfigurieren und zu kalibrieren. Der Photoresist-Entwicklungsmodus bereitet das Substrat vor der Strukturierung vor, und der automatische Ausrichtungsmodus richtet das Substrat automatisch für genaue Belichtungen aus. Der Mehrfachbelichtungsmodus unterstützt gleichzeitige Belichtungen verschiedener Muster auf demselben Substrat. Zusätzlich bietet der Bildanpassungsmodus eine feinere Steuerung der Strukturierungsparameter. VERTEQ 1600-55M verfügt über eine programmierbare Präzisionsscanner-Maschine für eine Musterauflösung von bis zu 10 μ m. Es hat programmierbaren Fokus und Plottgeschwindigkeit mit Feinabstimmungsknopf für präzise optische Musterung. Es ist mit einer hochauflösenden CCD-Kamera zur genauen Definition der Maskenbilder ausgestattet. 1600-55M verfügt auch über eine integrierte Maskenbibliothek und eine Echtzeit-Auto-Fokus-Funktion, mit der Benutzer das Tool schnell und einfach für jede Belichtung einrichten können. Darüber hinaus ist die Anlage mit einem Nivelliermodell ausgestattet, um sicherzustellen, dass alle Masken genau parallel zum Substrat sind. Das Gerät verfügt auch über erweiterte Sicherheitsfunktionen, wie einen Näherungssensor, um sicherzustellen, dass die gescannten Bilder nicht durch Vibrationen verdriften oder verschwimmen. Darüber hinaus verfügt das System über eine benutzerprogrammierbare Formatierung und ein benutzerfreundliches Bedienfeld für einfache Bedienung und effiziente Bedienung. VERTEQ 1600-55M Photoresist Unit bietet mit seiner hohen Auflösung, seiner präzisen Belichtungsgleichmäßigkeit, seinem breiten Leistungsspektrum und benutzerfreundlichen Schnittstellen eine optimale Lösung für hochauflösende, präzise Photolithographie. Diese robuste Maschine ist eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Photolack-Musteranwendungen.