Gebraucht VERTEQ 1600-55M #9253113 zu verkaufen

VERTEQ 1600-55M Photoresist Equipment ist eine modulare Plattform, die eine optimierte Abbildungslösung für Photoresist-Anwendungen bietet. Dieses System erfüllt hochgenaue Bildgebungsanforderungen einer Vielzahl von Photolacktechnologien. Es ist konfiguriert, um eine breite Palette von Photoresists zu verwenden, mit einem oder zwei Transporten, die Verarbeitung von Substraten bis zu 200 mm in der Größe ermöglicht. Das Gerät bietet hohe Durchsatzfähigkeit, hervorragende Bildqualität und lässt sich problemlos in eine Vielzahl von Prozessabläufen integrieren. 1600-55M ist mit optischen, reflektierenden und transparenten bildgebenden Komponenten konfigurierbar. Die optische Bildgebung erfolgt über drei abtastende optoelektronische Teilsysteme. Die oberste Optoelektronik ist der Einzelstrahl-Scanner, während die zwei Seiten-Optoelektronik Mehrstrahl-Scanner sind. Die Scanoptoelektronik nutzt eine Hochleistungsoptik, was zu hochauflösenden Bildgebungsfunktionen mit geringer Zeilenspreizfunktion führt. Auch eine hochauflösende optische Bildvergrößerungsmaschine ist für kleine Flächenmerkmale in das Werkzeug integriert. Das reflektierende bildgebende Subsystem besteht aus einer Laser Interferometric Magnification (LIM) -Optik, die eine Abbildung von ebenen und nicht planaren Oberflächen ermöglicht. Die Seitenoptoelektronik ermöglicht zusammen mit der LIM-Optik die Abbildung von Stufenstrukturen mit hoher Genauigkeit und Durchsatz. Inzwischen ermöglicht das transparente bildgebende Subsystem die Kontaktierung der Bildgebung mit Röntgenoptik und liefert hervorragende bildgebende Ergebnisse auch für 3D-Strukturen. Darüber hinaus verfügt VERTEQ 1600-55M über eine breite Palette von bildgebenden Parametern, die eine optimale Bildgebung für eine Vielzahl von Photoresist-Anwendungen ermöglichen. Zu diesen Parametern gehören hochgenaue Ausrichtung, Optimierung der Belichtungszeit, Dosisberechnung und optische Kompensation. Eine intuitive Benutzeroberfläche vereinfacht das Einrichten und Auswählen von Parametern und sorgt für einen effizienten und optimalen Bildgebungsprozess. Darüber hinaus ist das Modell in der Lage, mehrere Photolacktypen mit mehreren Prozessen zu handhaben, was es zu einer idealen Lösung für verschiedene Photolackanwendungen macht. Insgesamt bietet 1600-55M Photoresist Equipment hervorragende Bildgebungsfunktionen und hohe Durchsatzfähigkeit. Mit ausgezeichneter Bildqualität, hochgradig konfigurierbaren Abbildungsparametern und flexibler Integration in verschiedene Prozessabläufe ist das System eine ideale Abbildungslösung für eine Vielzahl von Photoresist-Technologien.